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記事検索結果
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金探針と金基板をナノメートル(ナノは10億分の1)まで近接させ、赤外レーザーを照射すると、波長が半分の光が発生する。
QSTでは、高度な微細加工技術や高精度イオンビーム照射技術を用いて、ナノメートル(ナノは10億分の1)スケールの特殊形状を施したGaNに希土類イオンを精密に注入することにより、希土類の...
一方、大成プラスの表面処理技術は薬液で金属表面にナノメートル(ナノは10億分の1)単位の微細で複雑な孔を開ける。
さらに技術開発を進めることで、物質表面にナノメートルの「量子サイズ」の構造物を加工することや、軟X線レーザーのもつ可干渉性を活用して電子回路などのナノパターンを一括描画する加工技術も実現できる可能性も...
EUVリソグラフィーでは、マスク基板やウエハーの露光・現像後、およびエッチング後のパターンのナノメートル程度の誤差が、素子の品質に直結するようになり、マスク基板品質やパターン品質を確認するために、走査...
高性能な永久磁石を作製するためには、その微細構造をナノメートル(ナノは10億分の1)レベルで精密に制御する必要がある。
技術の核は、成分をナノメートル(ナノは10億分の1)レベルまで微細化した上で表面張力で接着面を広げる「ナノ密着技術」だ。
1ケタナノメートル台の半導体を製造するのに欠かせない極端紫外線(EUV)のマスク用防護カバー製造装置やEUV用に設計された塗布・現像装置などが対象になる。
粒径10マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の微小粉体に、ナノメートル(ナノは10億分の1)レベルで均一な厚みの薄膜をコーティングできる。
東レリサーチセンター(TRC、東京都中央区、川村邦昭社長)は30日、分離膜の性能となる細孔構造をナノメートル(10億分の1)からサブミリメートル(1万分の1...
同装置はナノメートル(ナノは10億分の1)サイズに対応可能で、微細化する材料組織の検査ニーズに応える。
ASMLは1ケタナノメートル台の半導体製造に不可欠なEUV(極端紫外線)露光装置で世界シェアを独占する。... ArF液浸を複数台利用すればコストはかさむものの、1ケタナノメートル台の...
ナノメートル(ナノは10億分の1)級の材料は適切な形状や構造にすることで従来サイズ比で強さや電気・熱伝導性が向上し、医療や電子機器など幅広い分野での活用が期待される。
(編集委員・中沖泰雄) CNFは植物の主成分であるセルロースを処理してナノメートル(ナノは10億分の1)サイズまで解きほぐした素材...
先端半導体の1ケタナノメートル(ナノは10億分の1)世代の設計ルールに適合する。
最先端半導体は配線幅がナノメートル単位と狭く、洗浄水に残った不純物による品質への影響を防ぐためだ。
東芝はスパッタ技術により、酸化イリジウム(IrO2)を均一に分散したナノメートル台(ナノは10億分の1)の薄膜を形成することで、従来の塗布方式よりもIrO2使用量を10...