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アルミニウムとクロムを主成分とし、物理的気相成長(PVD)法で成膜する。... トーヨーエイテックの主力は化学的気相成長(CVD)法の膜。CVD膜は成膜温度が1000度...

グラフェンの製造には一般に、化学気相成長(CVD)法を用いて炭素原子をつなげていく手法が普及している。

高純度亜酸化窒素は、ガス状の原料を半導体の基板上に堆積させて薄膜を作る化学気相成長(CVD)法を用いて絶縁酸化膜を形成する際に使う。

【ツールドインターナショナル/ダイヤモンド工具】 ツールドインターナショナル(東京都世田谷区)はオーストリアのチロツール製3次元ブレーカー付きダイヤモンド工...

メタルマスクは基板を指定の位置にハンダ付けするために必要な治具で、プラズマ化学気相成長(CVD)法を使って表面処理する。

高純度亜酸化窒素は、ガス状の原料を半導体の基板上に堆積させて薄膜を作る化学気相成長(CVD)法を用いて絶縁酸化膜を形成する際に使う。

カルベールは金属微粒子を触媒として化学気相成長(CVD)法で合成されるカーボンナノチューブ。

従来、炭素ナノ分子の合成は化学気相成長(CVD)法やアーク放電法などを用いるが、山子教授らの手法だと、市販の試薬を使って合成できる利点があるという。

ツールドインターナショナル(東京都世田谷区、大藪誠社長、03・3427・7937)は、化学気相成長(CVD)法による合成で硬度を高めたオーストリアのチロツール(...

基材表面への膜の形成はプラズマ化学気相成長(CVD)法を使って行う。

グラフェン被覆炭素繊維は独自の高速化学気相成長(CVD)法で半焼き状態の樹脂有機物を炭化する際に発生する水素などを原料にグラフェンを繊維表面に立体的に成長させた。

慶応義塾大学理工学部電子工学科の粟野祐二教授は、ナノメートル(ナノは10億分の1)級の半導体の量産化に向け、新型熱化学気相成長(CVD)法を用いてカーボンナノチューブ&...

高温のアルコール蒸気などを用いた化学気相成長(CVD)法より10―100倍程度速い。

幅150ミリ―200ミリメートルの樹脂や金属の表面に、高速化学気相成長(CVD)法により厚さ5マイクロメートル(マイクロは100万分の1)のグラフェンを成膜。

従来の物理気相成長(PVD)法や化学気相成長(CVD)法、バナジウム炭化物の被膜を形成するTD法に比べて処理費は半分以下に抑えられる。

化学気相成長(CVD)法では鋳鉄加工用の超硬材種「MC5020」を追加。物理気相成長(PVD)法では一般鋼からステンレスまで幅広い被削材に対応した超硬材種「VP15TF...

【千葉】ユーテック(千葉県流山市、本多祐二社長、04・7150・5731)は、最小直径1マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の粉体微粒子の表面にプラズマ化学気相...

従来はメタンなど炭素含有ガスをプラズマで分解・合成するプラズマ化学気相成長(CVD)法が主流。だが、CVD法は大型設備が必要なことや反応時間が遅いこと、導入・運転コストが高いことなどが...

13年8月までに高速CVD法による2種類のグラフェンの量産と試作ができる装置や分析機器などを導入する。... 今後、12年12月までに分析装置、13年8月までに高速化学気相成長(CVD)...

独自の急速加熱拡散プラズマ化学気相成長(CVD)法を用いて、触媒となるニッケルで作った電極間のナノメートルスケール(ナノは10億分の1)リボン構造(ナノバー&#...

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