同研究所は、回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)以下を目指す蘭ASMLの極端紫外線(EUV)露光装置を2023年に稼働予定。... 露光装置と塗布現像装置の一体...

三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。同製品の技術を持つEUV露光装置メーカーの蘭ASML...

先端半導体の生産に欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」の周辺工程でも、日本の装置メーカーの存在感は大きい。 ... レーザーテックは、光源にEUVを使ったEUV露光...

■微細化追求 見極め重要 半導体回路の微細化で欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」の周辺工程で、日本の装置メーカーの存在感が増している。... 特に需要が高...

(微細化で優れる極端紫外線〈EUV〉露光装置が注目を集めるが)必ずしもEUVで製造した最先端の半導体だけが市場で求められているわけではない。... 貿易法務部門と連携し、きめ細かな情報...

半導体露光装置はカメラレンズで培ってきた光学技術を応用。... 半導体製造装置分野では、紫外線で効率的に微細な加工をする極端紫外線(EUV)露光装置が話題を集める。... 半導体露光装...

化学各社は最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光工程向け素材の供給体制を整備する。... EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場...

レーザーテックはEUV露光の実現に不可欠なEUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査/レビュー装置「ABICS E120」を製品化した。 同装置は世界...

極端紫外線(EUV)用フォトレジストの量産を始めた。 実際、EUV露光装置の生産台数は年数十台。ArF露光装置の年産200台と比べると需要差は大きそうだが「当面は並行...

現行の10ナノメートルチップと同じ「ロー・パワー・プラス(LPP)」プロセスで製造され、より微細な電子回路作製への適用が期待される極端紫外線(EUV)露光装置は使わない...

「ベルギーの研究機関IMECと設立した工場でEUV用フォトレジストの量産を始めた。... 特に評価されているのが、実際にEUV露光装置で品質を保証できる優位性。まずは従来のフッ化アルゴン(Ar...

JSRとベルギーの研究機関IMECは22日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けリソグラフィー材料を生産する合弁会社を設立したと発表した。... IMECのEUV露光装置など...

極端紫外線(EUV)リソグラフィ向けフォトレジストの量産に備える。 ... ただ、光源の問題を抱えるEUV露光装置には実現を危ぶむ声も。

サプライヤーとしては北米プラス南米で考える必要があり、17―19年度の課題と捉えている」 ―半導体向けでは極端紫外線(EUV)による生産技術の前進を受け、露光材料の量...

JSRも極紫外線(EUV)露光材料の量産に向け動きだした。... 一方、JSRは年内をめどに、IMECと光源にEUVを用いる露光装置向けフォトレジストの合弁会社を設立する。最新のEUV...

JSRは年内をめどに、ベルギーの研究機関IMECと光源に極紫外線(EUV)を用いる露光装置向け材料の製造・品質管理を担う合弁会社を設立する。... JSRは最新のEUV露光装置が持つ8...

足元ではEUV(極紫外線)を光源に採用した次世代露光装置の研究開発を進めている。EUV露光装置を巡っては実現可能性が低いと判断し、ニコン、キヤノンともに撤退している。ASMLがEUV露...

―EUV(極紫外線)露光装置の量産技術の実現性をどう見ていますか。 ... 当社もEUV露光装置の基本設計は行っているが、課題が多く量産装置の開発にゴーサインを出せる...

◆ ―EUV(極紫外線)露光装置の開発状況は。 ... 【記者の目/課題解決力も日本勢に脅威】 2月下旬、米カリフォルニ...

長く次世代技術の本命とされてきたEUV(極紫外線)露光。... EUV露光装置を量産工場で使うには250ワット出力の光源を安定的に稼働させることが必要とされる。... EUV露光装置を...