- トップ
- 検索結果
記事検索結果
262件中、3ページ目 41〜60件を表示しています。 (検索にかかった時間:0.004秒)
同社は半導体フォトマスク欠陥検査装置の大手メーカーだが、特に最先端分野であるEUV(極端紫外線:Extreme Ultraviolet)用フォトマスク向けでは独占的なポ...
ペリクルは半導体やFPDの露光工程で微細パターンの描かれたフォトマスクに塵などが付くことを防ぐ膜製品。
凸版印刷がフォトマスク(半導体回路の原版)事業を分割して設立した新会社の社長に就いた。... 印刷畑が長く、フォトマスク事業へ異動した当初は苦労も多かった...
半導体用フォトマスク(回路の原版)を手がけるトッパンフォトマスク(東京都港区、二ノ宮照雄社長)は、3―5年後に新規株式公開(IPO)...
フォトマスクは半導体の製造工程で使用する重要部材。... 秩父電子では使用したフォトマスク基板を研磨・洗浄し、再生する事業を手がける。... 今回、フォトマスクメーカーから基板の再生ニーズが高いことか...
「フォトマスク保護膜『ペリクル』ありEUV用フォトマスクの欠陥検査装置の開発と実用化が進み、売り上げが大きく伸びた。
加えて(実用化してもらうには)露光装置だけでは不十分で、例えばフォトマスク(半導体回路の原版)などの部材の開発も必要。
光学フィルム、有機ELの部材、フォトマスク(半導体回路の原版)といったエレクトロニクス事業でも好調を維持できている」 ―21年11月時点では、21年10―2...
対象は、シリコンウエハー上への回路図の転写に用いられるフォトマスクブランクス。... 表面に半導体の回路原版を形成し、フォトマスクとして使われる。露光装置内でフォトマスクにEUVを反射させ、回路をウエ...
それまではスクリーンマスクやフォトマスクなどプリント基板の印刷原版を作る会社の開発部で働いていた。
三井化学はICT分野の強化のため、複数部署に分散しているイクロスやフォトマスク用防塵カバー「ペリクル」、光学樹脂「アペル」などのICT関連製品を集めて22年4月にICTソリューション事業本部と研究セン...
同制度への移行に向け、トッパン・フォームズの完全子会社化のほか、22年4月にはフォトマスク(半導体回路の原版)事業の分社化も行う予定。
レーザーテックは、フラット・パネル・ディスプレー(FPD)フォトマスク欠陥検査装置の新機種を発売した。最高検出感度0・3マイクロメートル(マイクロは100万...
自動車向け視野に品種拡充 日本ゼオンは、CPU(中央演算処理装置)など半導体デバイスの熱伝導性を高めるシート系放熱材料「TIM」や、フォトマスクに回路パターンを形成す...