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(「2023年 第66回十大新製品賞」に受賞製品の紹介) 2023年(第66回)十大新製品賞(...

2023年 第66回十大新製品賞 (2024/1/4 十大新製品賞)

本賞 レーザーテック/高輝度EUVプラズマ光源「URASHIMA」 マスク欠陥を高感度で検出 レ...

米マイクロン・テクノロジーも広島工場で、国内で初めてEUV(極端紫外線)露光装置を使った次世代メモリー半導体の量産を計画する。

レーザーテック/独自のEUV光源で欠陥検査 (2023/12/25 新製品フラッシュ2)

レーザーテックは、自社開発の高輝度極端紫外線(EUV)プラズマ光源を標準搭載したEUV露光用マスクパターン欠陥検査装置「ACTIS A300」の受注を始めた...

競合と協力する必要も出てくるかもしれない」 ―極端紫外線(EUV)マスクの状況と今後の方針は。 ... 試作はある程度、上福岡工場(埼玉県ふ...

極端紫外線(EUV)関連も、これからかなり期待する領域だ」 ―次世代EUVペリクルの開発に取り組む計画です。

NEC、「ひさき」運用支援完遂 惑星観測10年超 (2023/12/20 電機・電子部品・情報・通信2)

ひさきは極端紫外線(EUV)分光器を搭載し、火星、金星、木星などの超高層大気を観測。

リンテック、耐熱性2倍のフォトマスク用防塵カバー開発 (2023/12/20 素材・建設・環境・エネルギー2)

リンテックは極端紫外線(EUV)露光装置向けに、フォトマスク(半導体回路の原版)の防塵カバー「ペリクル」を開発した。... リンテックは半導体回路パ...

三井化学は2025―30年に、半導体の製造工程で使われる次世代の極端紫外線(EUV)ペリクルを実用化する方針だ。... 最先端のEUV露光機に対応したカーボンナノチ...

ニュース拡大鏡/TOPPAN・大日印、フォトマスク微細化加速 (2023/12/13 電機・電子部品・情報・通信1)

TOPPAN/次世代2ナノメートル、米IBMに供給 EUV露光に対応するEUVマスクは描画パターンが多く、描画時間を大幅に短縮できるマルチビーム描画装置での製造が主流。.....

レーザーテック、高輝度EUVで欠陥検出 マスク検査装置を受注 (2023/12/12 電機・電子部品・情報・通信1)

【横浜】レーザーテックは自社開発の高輝度極端紫外線(EUV)プラズマ光源を標準搭載したEUV露光用マスクパターン欠陥検査装置「ACTIS A300=...

復権 半導体/TOPPAN専務執行役員・植木哲朗氏 EUVマスク量産検討 (2023/12/8 電機・電子部品・情報・通信)

当社も26年度以降に朝霞工場(埼玉県新座市)で極端紫外線(EUV)マスクの量産ライン設置を検討している」 ―フォトマスクでは世界8拠点を持ちます。&#...

半導体業界の需要は2024年度には回復するとみており、材料の出荷量も増えると考えている」 ―半導体分野では、レジストポリマーは最先端の極端紫外線(EUV)やフッ化アル...

一方、蘭ASMLとは極端紫外線(EUV)装置で現状2回露光しているのを1回に減らすため、前後の工程でどのような処理が必要かなどを共同で研究しており、良い結果が出始めている。

次世代半導体の量産を目指すラピダス(東京都千代田区、小池淳義社長)は、北海道千歳市に建設中の工場で微細加工に不可欠な極端紫外線(EUV)露光装置を2...

さらに同社が得意とする分光技術を応用して、ペリクルが破れる予兆を測定し歩留まり向上につなげる機能の開発も、最先端の極端紫外線(EUV)プロセス向けに進めている。

同社が製造する極端紫外線(EUV)露光装置は、最先端半導体の生産に欠かせず、数十人から100人程度の技術者が、ラピダス新工場の生産ラインの立ち上げや保守点検に協力する。 ...

キヤノン、「ナノインプリント」実用化 半導体露光装置を発売 (2023/10/16 電機・電子部品・情報・通信)

極端紫外線(EUV)露光装置に比べ工数を減らすことができ、多くの電力も必要ない。... このためEUV露光装置と比べ、対象工程の製造コストを約4割、消費電力を同9割それぞれ減らせる見込...

レーザーテックは半導体向け極端紫外線(EUV)露光用パターン付きマスクの欠陥を高感度で検出できる高輝度EUVプラズマ光源「URASHIMA(ウラシマ)...

マイクロンが2025年12月―26年2月の出荷を目指している、国内で初めてEUV(極端紫外線)露光装置を使った次世代メモリー半導体の量産に最大1670億円、同半導体を積層した先端DRA...

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