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記事検索結果
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UBM形成、膜厚均一 奥野製薬工業(大阪市中央区、奥野和義社長)は、半導体ウエハー向けの全自動無電解メッキ装置「トライザELシステム」を開発し、販売を始めた。... ...
大電流・高電圧化や省エネ化などのニーズを商機に、化学メーカーはウエハー素材や関連技術の開発に力を入れる。... また新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)は、SiCウエハーの大...
一般的に、半導体ウエハー製造工程のトランジスタ形成までを前工程、配線工程以降を後工程と呼ぶ。
特に先端半導体向けウエハーは品質要求が厳格で、工程管理の難易度も上がっている。... 同社も先端ロジック半導体向けのウエハーに注力する中、九州など国内中心で設備投資を進める。「人材面を考えると日本が最...
数十枚のウエハー上に薄い膜をつくる「バッチ式」の成膜装置や、成膜後に膜中の不純物を取り除き膜質を改善させるトリートメント装置で世界トップレベルのシェアを占める。... 直径200ミリメートルまでの炭化...
当社はSiCウエハー基板製造技術をはじめとしたSiC半導体を作るのに不可欠な要素技術を全て自社内に持ち、各技術のすり合わせを全体最適でできる。... 東芝が石川県で整備中の300ミリメートルウエハー対...
あとは供給力の問題だ」 ―傘下の加賀東芝エレクトロニクス(石川県能美市)で、300ミリメートル(12インチ)ウエハー対応のパワー半導体の新工場を建設中...
主力の直径300ミリメートルウエハーは24年4―6月か7―9月が大底になる予想。... 中長期ではウエハー需要の増加が見込め、市場の回復をみながら新工場を稼働させる。... 「ウエハー製造はすり合わせ...
タカトリは半導体材料であるウエハーの研削から研磨までを行える装置「グラッピングSiC」を発売した。... 最大8インチのウエハーを処理でき、炭化ケイ素(SiC)や窒...
「当社は前工程で300ミリメートルウエハーを保管する容器『FOUP』を運ぶシステムを主に手がけているが、後工程ではさまざまな形状の物を運ぶニーズがある。
本格販売するベアウエハーストッカー「CDWX」は、半導体製造装置にウエハーを搬入出するロードポート上にある保管・搬送容器(フープ)から、ハンドリングロボットでウエハーを取り出し、村田機...
半導体の製造にかかる期間を従来より削減するため、ウエハーを1枚ずつ処理する「枚葉式」の装置が「今後の半導体市場の大きな潮流になる」(東会長)との指摘もある中、半導体製造装置各社がどう対...
EUV露光装置は回路線幅7ナノメートル以降の回路の微細なパターンをウエハー上に転写露光する技術として先端半導体製造に不可欠となる。
新棟によって、半導体ウエハーを自動搬送する天井走行台車(OHT)の生産能力は20年比約2・5倍に拡大すると見込む。
生産能力は直径300ミリメートルウエハー換算で年42万枚。ローム子会社のラピスセミコンダクタ(横浜市港北区)が稼働開始を予定する宮崎県国富町の工場では、直径200ミリメートルのSiCウ...
我々の主力は300ミリメートルウエハー向けのロードポートだが、新規受注を獲得するため後工程向けに進出するほか、パワー半導体の200ミリメートルウエハー投資向けなども狙う」 ―半導体関...
通常シリコン光回路はウエハー面内に形成されるが、エレファントカプラーではシリコン光配線の先端をイオン注入によりウエハー面に対して垂直方向に立体湾曲加工して、ウエハー面に垂直な方向から光集積回路へ光入出...