- トップ
- 検索結果
記事検索結果
電子版有料会員の方はより詳細な条件で検索機能をお使いいただけます。
ログイン
64件中、4ページ目 61〜64件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.003秒)
半導体各社、20ナノ台の実用化に懸念−露光工程で課題 （2008/6/17）
このため、波長13・5ナノメートルのEUVを露光光源に用いる手法を研究開発するが、20ナノメートル世代が実用化する2013年に安定出力を得られるか、また、装置生産性を向上できるかが問われている。...
微細化の先に(7)富士通マイクロエレクトロニクス取締役・八木春良氏 （2008/6/19）
「回路をウエハーに焼き付ける露光が難しい。極端紫外線(EUV)を露光光源に用いる研究開発が進んでいるが、量産技術の確立までに時間がかかると思う。また、技術確立してもEUV露光装置の導入...
装置が支える半導体・液晶(5)露光2回「凍結法」で解決 （2008/6/16）
オランダのASML、ニコン、キヤノンの露光装置メーカー3社は32ナノメートルプロセスに向けた研究開発を、露光を2回実施する「ダブルパターニング」、純水より屈折率の高い溶媒を介して解像度を高める「高屈折...
経営ひと言/台湾TSMCのシャンイー・チャン開発担当上席副社長 （2010/2/26）
光源に極紫外線(EUV)を使う次世代露光装置の搬入に使うクレーンが「特注品で190万ユーロ(約2億3000万円)もした」とか。 EUV露光装置単体の価格も一台8...
