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記事検索結果
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これを捉え、プラズマの中空構造がEUV発光効率を高めると突き止めた。... これを最適化すると、EUVの高出力化につながる。EUVはミラーでの反射率が低く、光源の高出力化が求められていた。
半導体露光装置などの精機事業ではデジタル露光、映像事業では映像コンテンツ、ヘルスケア事業では細胞受託生産・創薬支援、コンポーネント事業では光学・極端紫外線(EUV)関連部品などを成長ド...
半導体部材、技術革新に挑む 全額出資子会社のAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)が生産する半導体向けの極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランク...
半導体回路の微細化に不可欠な極端紫外線(EUV)の露光装置を使った量産技術の開発を共同で進める。 imecはEUV露光技術のノウハウを持つ。
「1β」の開発には3年間に毎年10億ドル規模の投資を行い、韓サムスン電子などが採用している先端の露光技術「極端紫外線(EUV)」を使わず、成熟した「ArF液浸」の技術を用いて開発に成功...
半導体のナノ形状計測 近年、先端半導体製造技術として極端紫外線(EUV)リソグラフィーが実用化され、現在はその性能を向上させるための研究開発が活発に行われている。半導...
中でも半導体の露光工程では、極端紫外線(EUV)の導入が拡大すると見ており、関連材料は伸長するだろう」 ―マーケティングの強化を重点課題に掲げています。 ...
同時に現行スパコンの高度化のために、次世代シリコン半導体や極端紫外線(EUV)リソグラフィー光源などの技術を開発する。
溶剤以外でも能力増強や、最先端のEUV(極端紫外線)レジストポリマーの開発など、市場拡大に対応した事業強化を進めている。
同工場では次世代半導体の製造に不可欠とされる極端紫外線(EUV)露光に対応した製品を含む各種フォトレジストや、同じく半導体の製造に欠かせない高純度化学薬品を生産する。
ArF(フッ化アルゴン)レジスト用モノマーは世界シェア首位でEUV(極端紫外線)レジストにもモノマーを供給。
同社は半導体フォトマスク欠陥検査装置の大手メーカーだが、特に最先端分野であるEUV(極端紫外線:Extreme Ultraviolet)用フォトマスク向けでは独占的なポ...
現在半導体大手は極端紫外線(EUV)露光を用いて線幅2ナノメートル(ナノは10億分の1)の実現を目指している。
ASML、EUV供給を独占 「ムーアの法則は、今後10年以降も続いていく見通しで、それを中心的に支えるのが最先端のEUV露光装置だ」―。... ASMLが供給を独占するEU...
最先端のEUV(極端紫外線)技術を使った露光装置向けマスクの検査装置用光学系部品の販売も伸びており、25年度までに生産能力を現在の2倍程度に引き上げることを検討する。
最先端のEUV(極端紫外線)対応の露光装置の開発から撤退したため、最近の半導体スーパーサイクルの恩恵も受けていない。 ... 精機事業でもEUVを含む幅広い半導体製造...
極端紫外線(EUV)関連装置の増産対応、細胞受託生産関連などで設備投資を行うほか、材料加工やヘルスケア領域などでM&A(合併・買収)も計画する。 ...
成長のEUV関連伸ばす ―2022年度の世界経済の見通しは。 ... 部材供給の制限は受けるものの、計画通り出せている」 ...
現在最先端の半導体製造には「極端紫外線(EUV)露光」装置が使われているが、同社は同装置の開発からは撤退している。
(ASMLが供給を独占する)極端紫外線(EUV)の導入が進んでいるが、3次元NAND型フラッシュメモリーや相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーは今...