- トップ
- 検索結果
記事検索結果
290件中、6ページ目 101〜120件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.004秒)
大阪工場では既存建屋に液浸ArFと極端紫外線(EUV)レジストの製造設備を増設し、23年度上期に稼働する。... 住友化学は現在ArFと液浸ArF、EUV用の最先端レジストを大阪工場で...
ADEKAは30日、極端紫外線(EUV)露光向け光酸発生剤の生産能力を従来比2倍以上に引き上げると発表した。... フッ化アルゴン(ArF)液浸露光向けに加え、半導体の...
微細化、EUV向け先行 【レジスト活況】 世界各地で進む半導体増産計画を前に、化学各社は半導体製造プロセス材料の増産投資を活発化している。... AGCはEUV向け...
ArF(フッ化アルゴン)液浸露光向けを中心に販売は好調で、今後は5Gなどの普及で需要増加が見込まれる最先端の極端紫外線(EUV)露光向けを拡販する。
「極端紫外線(EUV)など先端材料に加え、フッ化クリプトン(KrF)をはじめ既存材料も伸びた」と手応え。
【シングルナノ】 同社は半導体回路の微細化に伴う光源の短波長化に合わせ、次世代技術とされる極端紫外線(EUV)を含むあらゆる光源に対応してきた。... 波長が13・5...
同社は液浸ArFの次の極端紫外線(EUV)露光用レジストで出遅れていたが、最近は「複数社に採用が決まり、追い上げができてきた」(勝田修之電子材料事業部長)と手応えを語る...
最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジスト樹脂材に、不純物が混ざらない低メタル化技術を進展させる。
「最先端半導体の製造工程部材『EUVペリクル』の商業生産が始まるなど、目標の売上高1000億円へ順調だ。
最先端半導体製造用のフォトマスク保護膜「EUVペリクル」や半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を展開し、中期的にICT分野で売上高1000億円規模を目指している。
【EUV向け増】 同社はルテニウムを用いた成膜材料「スパッタリングターゲット材」を、半導体ウエハー上に微細回路を形成する材料や、回路パターンを同ウエハーに焼き付ける原盤の母材「マスク...
JSRは液浸フッ化アルゴン(ArF)向けフォトレジストで世界シェアトップ、最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストでも上位に位置する。... 山口上席執行役員は「...
NILはシンプルな製造プロセスでEUV露光のように大電力を消費することもない。... 回路形成工程における1ウエハー当たり消費電力をEUV露光使用時と比較して10分の1程度にできることが分かった。&#...
同社はEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからEUVペリクルの技術供与を受け、5月までに岩国大竹工場(山口県和木町)で生産設備の商業生産を開始した。... 透過率が低いと露光時間が長くな...
フォトマスクは消耗品で消費量が多く、EUV用は高価なため、事業は急成長した。 AGCがEUV用から新規参入したのは、EUV以前のフッ化アルゴン光源露光などとは段違いの性能や品質が求め...
EUV露光装置を手がける蘭ASMLが、露光工程の歩留まり低下を防止する「ペリクル(防塵カバー)」を量産用途のEUV向けで初めて開発した。... ペリクル完成までEUV露光を使用しない方...
東京エレクトロンは8日、ベルギーの研究機関imecと蘭ASMLが共同で運営するオランダの研究所「imec―ASML共同高NA EUV研究所」に自社の最先端の塗布現像装置を導入すると発表した。同...
EUV用は少量でも、高価で収益寄与が大きい。素材各社はEUV独特の品質要求に対応し、事業拡大を目指す。... 三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォ...
三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。... ペリクルで培った異物管理などの生産ノウハウを...
