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記事検索結果
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「EUV光源を使ったフォトリソグラフィーは次世代技術として注目は高く、EUV光源のパワー不足などの課題が解決されれば、2―3年内に実用化されるとみている。これに使う合成石英のフォトマスク用基板の研究開...
【名古屋】竹田印刷は名古屋市と石川県の両工場に半導体製造用ガラス製フォトマスクの製造装置を1台ずつ年内に増設する。... ガラス製フォトマスクの生産能力はグループ全体で現在比5割増加する。 &...
■執行役員ファインオプトロニクス事業部副事業部長 中村治氏 【横顔】シャドーマスクやカラーフィルター、フォトマスク、ケミカルエッチングの技術や製造、営業部門などに携わる。
極小の金属細線を格子状に配線するメタルメッシュセンサーは、フォトマスクを使って現像やエッチングをする「フォトリソグラフィー方式」が主流だった。
同社の主力事業である液晶パネル向けフォトマスクの製造とは全く異なる技術で、大学との技術連携により開発した。
高解像度レビューと分類ができる点もFPD用フォトマスクメーカーやマスクブランクスメーカーなどにアピールし、新規受注や既存顧客の買い替えにつなげる。 ... FPD用フォトマスク業界か...
中国の半導体メーカー向けに半導体用フォトマスクを製造・販売するため、中国に新工場を建設する。... DNPとフォトロニクスは、14年から台湾に半導体用フォトマスクを製造・販売する合弁会社「フォトロニク...
それらパネルの製造工程で不可欠なキーデバイスがフォトマスク。エスケーエレクトロニクスは第10世代以上の大型フォトマスクや、高精細な中小型フォトマスクに強みを持つ。... ―第8・5世代以下の中小型向け...
【京都】エスケーエレクトロニクスは高精細な中小型液晶パネル用フォトマスクの生産体制を強化する。... エスケーエレクトロニクスは非常に高精細な回路パターンを転写するフォトマスク技術に強みを持つ。......
フォトマスクを使用しない「マスクレス露光」なので、マスク発注コストがなくなり、設計の微修正がしやすいなどのメリットがある。... 「マスクレス技術と我々のモノづくり技術が一体になれば、これからも伸びる...
だが70年代後半には、ガラス基板上に感光剤(レジスト)を塗布し、フォトマスクを使って現像やエッチングをする「フォトリソグラフィー方式」に移る。... そのため、マスクとガラス基板を非接...
特に半導体のフォトマスク製造などは好調で、トップクラスのシェアがある。今後も次世代半導体のフォトマスクは小型化するため、微細加工の強みが生かせるだろう。
素材を切断・研削したガラス部材は半導体製造の治具や液晶・有機EL用フォトマスク(回路原版)基板、光学部品、医療機器部品などに使われている。
大日本印刷(DNP)は約26万本の電子光線で半導体のフォトマスクを描画する「マルチ電子ビームフォトマスク製造装置=写真」を上福岡工場(埼玉県ふじみ野市)に導入し...
フォトマスクはガラスなど透明な素材でできたパターン原版。... DICはフォトマスク市場が2020年まで、世界で年率2―3%ずつ成長すると想定。高品質なフォトマスクを安定供給できる体制を整える...
【和歌山】太洋工業は微細金属加工部品や同加工によるフォトマスク向けに、外観検査装置「TY―VISION M107SC=写真」を発売した。... これまで外観検査装置の主な対象としてきた...
フォトマスクメーカーや半導体業界向けに提案する。... FPD製造においてフォトマスクは高精細化の重要な役割を持つ。最近はフォトマスク上にハーフトーン膜を用いることで、位相を反転させて転写する微細化技...