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有機ELパネルの駆動基板には、すでに石川工場で生産している低温ポリシリコン薄膜トランジスタ(TFT)を活用。

欧米や中国の携帯電話で従来のアモルファスシリコン液晶を高精細な低温ポリシリコン液晶に変える動きが活発だ。

酸化膜や窒化膜、ポリシリコンなどの半導体膜を加工する。

現在はシリコン上に微細なパターンを加工するエッチング工程で六フッ化硫黄(SF6)ガスを使用しているが、「SF6ガスはCO2の2万3900倍の温室効果があり、その削減が求められている」&...

40型級の有機ELテレビを製品化する場合、ソニーが11型で採用している低温ポリシリコン薄膜トランジスタ(TFT)ではなく、アモルファスTFTになると想定される。

東芝松下ディスプレイテクノロジー(TMD、東京都港区、大井田義夫社長、03・5462・7120)は08年度、低温ポリシリコン液晶や有機エレクトロ・ルミネッセンス(EL)...

半導体メーカーは、現行で先端品となる回路線幅40ナノメートル世代では、トランジスタ内の電子移動度を高める「歪みシリコン技術」を用いて電力消費を効率化する手法を採用。... ゲート電極を現在のポリシリコ...

チッソと新日鉱ホールディングス(HD)グループが太陽光発電用ポリシリコンの生産会社を6月に設立する。... 今回のポリシリコンの事業化は、長期計画の「環境分野の中核事業。... 新会社...

ソニーなどのポリシリコンTFTより大型化が可能で、すでに31インチパネルの試作品を公開した。

チッソ、新日鉱ホールディングス(HD)、東邦チタニウムは28日、240億円を投資し、太陽光発電用ポリシリコンの量産工場を建設すると発表した。 新日本ソーラーシリコン(東...

だが、結晶系セルは原材料のポリシリコンが世界的に不足、近い将来の供給不足が危惧されているため、化合物系セルの開発を決めた。

ポリシリコンを用いた現在の構造では漏れ(リーク)電流が多くなる。

電流が流れた時に発生するオン抵抗は、現在主流のシリコンダイオードの約10分の1の0・85ミリオーム平方センチメートルに抑え、インバーターのエネルギーロスを約20%低減した。... 日産が開発し...

高誘電率ゲート絶縁膜(High―k)とメタルゲートの採用により、従来のポリシリコン・ゲート絶縁膜に比べて動作速度を最大40%向上した。

三菱マテリアルは、四日市工場(三重県四日市市)で多結晶シリコンの生産能力を2010年に現在比1000トン増の年2800トンに増強する。... 今回の増強後、三菱マテグループの多結晶シリ...

米コーニングは6月までに、低温ポリシリコン(LTPS)液晶向けに開発した新型ガラス基板の量産を始める。... LTPSは現在主流のアモルファスシリコンに比べ、解像度の向上や薄型化などが...

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