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記事検索結果
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「世界の先端半導体の開発競争では、40ナノ(ナノは10億分の1)から20ナノ、7ナノ、2ナノメートルと回路線幅の微細化が進んできたが、今後は3次元構造となり、ゲームチェンジの時期がやっ...
ASMLが供給を独占するEUVは、回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)以下のパターンを形成可能。... 年内にも3ナノメートルの半導体量産に踏み切ると言われている。... 光源...
高分子材料のパリレン基板上に厚さ100ナノメートル(ナノは10億分の1)ほどの金の薄膜電極を作り、金電極と金電極を貼り合わせる。... 電極表面の表面粗さの許容範囲が二乗平方根粗さで7...
新工場で製造するのは先端技術である回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)の半導体で、28ナノメートル半導体も手がける。
E1080の心臓部は、韓国サムスン電子の7ナノメートル(ナノは10億分の1)の製造プロセスを使ったIBM初の商用プロセッサーとなる。
回路線幅7ナノ―5ナノメートル(ナノは10億分の1)の最先端半導体は製造の難易度が高く、大きなチップは歩留まりが悪い。
その後、加工液内に最小径13・7ナノメートル(ナノは10億分の1)のウルトラファインバブルを発生させ、加工液タンクの中で清浄な液をためるクリーンタンクに戻す。
線幅7ナノメートルプロセス(ナノは10億分の1)で製造し、動作周波数は5ギガヘルツ(ギガは10億)を超える。
同研究所は、回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)以下を目指す蘭ASMLの極端紫外線(EUV)露光装置を2023年に稼働予定。... ただ、最先端半導体の回路線幅...
今後、EUV半導体の回路が現在の5ナノ―7ナノメートル(ナノは10億分の1)から3ナノ、2ナノメートル以下へ微細化が進むと、回路上の電子が隣の回路に飛ぶと懸念される。
回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の最先端半導体の需要拡大に伴い、EUVペリクルも需要増加が期待されている。
回路線幅が7ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の製品を生産し、2024年から稼働を始める計画だ。 ... 20年には7ナノメートルの技術開発遅れが明らかになった。...
インテルは回路線幅10ナノメートル(ナノは10億分の1)の製造プロセスで目標期限を達成できなかったことに続き、2020年は最新の7ナノ技術でも遅れが生じるなど問題が顕在化している。
その後、加工液内に最小径13・7ナノメートル(ナノは10億分の1)のウルトラファインバブルを発生させ、加工液タンクの中で清浄な液をためるクリーンタンクに戻す。
当初計画していたプロセス技術では目標の性能が出ないことが分かり、プロジェクトの途中で、線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)への切り替えを決断した。 当時、7ナノメ...
半導体製造装置・材料の国際団体である米SEMIは、21年の世界半導体製造装置販売額が前年比4・3%増の719億ドル(約7兆5000億円)になると予測する。... 実際、東京エレ...
さらに殺菌灯から波長が253・7ナノメートル(ナノは10億分の1)のUVを照射して除菌した空気を排出、室内で循環させる。
【富山】橋本テクニカル工業(富山市、橋本直幸社長、076・469・1501)は、旋盤やマシニングセンター(MC)などに使う加工液に最小径13・7ナノメートル(ナ...
