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この電子回路を作るために不可欠な技術がリソグラフィ技術だ。 ... リソグラフィ技術では、光の波長が回路の微細化・集積化のカギを握る。... QSTのプロジェクト「EUV超...
半導体の微細化が進む中、高い感度と解像度を持つインプリアのEUV用メタルレジストを取り込み、「先端リソグラフィー分野におけるリーダーとしてのポジションを強化する」(エリック・ジョンソン最高経営...
一般的な半導体リソグラフィー設備でチップが製造できるため、製造コストも抑えることができ、規模の拡張もしやすいという。
用途に合わせて誘導体やリソグラフィーを組み合わせ、結合の化学や電荷移動の特性を設計に取り込み、無機・有機界面を調整する必要がある。
しかし、EUV(極端紫外線)装置といった最先端のリソグラフィー装置はオランダ企業の独占状態にある。かつて日本企業は世界に先駆けてリソグラフィー装置の開発に成功し、強い競争力を誇ったが、...
ArFリソグラフィー技術は高機能な半導体向けとして現在主要な製造プロセスとされる一方、第5世代通信(5G)などの普及に伴い、EUV向けフォトレジストの需要増加が見込まれている。 ...
大日本印刷は、キオクシアホールディングス(旧東芝メモリホールディングス)、キヤノンと共同で開発を進める「ナノインプリントリソグラフィ(NIL)」での半導体製造が極端紫外...
回路を生成するリソグラフィ工程で使うフォトレジスト各社は、軒並みEUV対応の開発を強化し、受注競争は激しくなっている。
特にEUV関連では、最先端の半導体の製造に欠かせないEUVリソグラフィー技術の研究開発が進められてきた。... ニュースバルはEUVリソグラフィーの実験、研究ができる国内唯一の施設という。... EU...
半導体材料事業については極端紫外線(EUV)、液浸フッ化アルゴン(ArF)向けリソグラフィー材料を四日市工場(三重県四日市市)で増産。
(敬称略) ▽有馬健太(大阪大学)「ナノカーボンが持つ腐食作用を逆手に取った触媒援用型ナノ化学リソグラフィー」▽角田直人(東京都立大学)...
同シートはベースとなる樹脂フィルムに、感光材料を利用しパターンを生成するリソグラフィ技術で微細な孔を開け、硫化物系の固体電解質粉末を充填させ、加熱・加圧処理を施して作製する。
大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。
生産にあたっては、ショットの高屈折ガラスウエハー、インクロンの高屈折ナノインプリントコーティング材、EVGのナノインプリントリソグラフィ技術、ウェーブオプティクスの光導波路の設計ノウハウなどを組み合わ...
研究グループは、有機半導体単結晶の薄膜をフッ素系高分子膜で被膜し、有機半導体でのダメージを減らせるリソグラフィー(露光によるパターン形成技術)手法を開発。
