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スクリーン印刷は、微細回路形成で主流のフォトリソグラフィー法に比べて低コストで破棄材料も少ないが、狭ピッチ化が課題だった。

このようなエレクトロニクスデバイスのほとんどは、フォトリソグラフィーというパターニング技術によってつくられる。フォトリソグラフィーは微細で精細なパターンをつくることができるが、真空の工程を多く含むとと...

同グループは複雑な分岐構造を持つ毛細血管の断面が円形である中空モデルを作製するには、機械加工や光造形、積層造形などでは難しく、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィーが適していると判断した。

同社は半導体製造装置の洗浄工程やフォトリソグラフィー工程で使われる部品や、医療分析装置の継ぎ手などのシール部品や機能部品の切削加工などを手がけている。

フォトマスクを用いるパターン状露光のフォトリソグラフィーやエッチングといった既存工法に比べて生産時間が最大10分の1になる。

その後、フォトリソグラフィー技術を使った細胞表面に傷を焼き付け、導電膜をはがす。... フォトリソグラフィーの応用により、数マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の精度で複数の細...

フォトマスクを通して光を照射することにより、現像などの処理を必要とせずに表面の形状を変えることができる。現像が必要なフォトリソグラフィーや微小の鋳型を使うナノインプリント技術とは異なる簡単な微細加工法...

従来の成形技術であるフォトリソグラフィーと比較すると、低コストでより細かいパターンの成形が可能。

記憶部分を担うアルミニウム酸化物層をRFスパッタ法、アルミニウム配線層を真空蒸着で形成しフォトリソグラフィーで作製した。

タイプの違う細胞の配置を、フォトリソグラフィーや多色刷り印刷技術で制御する。

今後は量産手法の確立を目指すほか、プリント基板や半導体の製造プロセスで使うフォトリソグラフィーなどへの応用研究を進める。

フォトリソグラフィー性能を付与することで、微細なパターンの形成もできる。

太陽誘電複合デバイス事業本部EOMIN商品部の星健一部長がこだわったのは、フォトリソグラフィーとエッチングで微細な配線を形成する技術の展開だ。

コベルコ科研はフォトリソグラフィーとエッチングの技術を活用。

絶縁材に含む樹脂段階から開発し、硬化温度を従来のフォトリソグラフィー方式向けと同じ150度Cに引き下げた。 ... このため、フォトリソグラフィー方式に比べ材料の使用量や加工時間の大幅な削減・...

シリコン製はフォトリソグラフィー技術で隔壁や弁などの微細構造を成形するが、ステンレス箔製はプレス加工で成形できる。

ベース素材の上に光で硬化するシートと紫外線(UV)マスクを置き、フォトリソグラフィーで感光・硬化させた後、ニッケルメッキを施す。

これらの薄膜はスピンコート法などの簡便な塗布法で得られ、パターニングにはインクジェット印刷やフォトリソグラフィー法などを利用できる。

流路形成には、半導体素子製造で使われるフォトリソグラフィー技術を用いる。

ライン幅、間隔30マイクロメートル以下の回路形成で用いられるフォトリソグラフィー法の設備に比べて工程数が少なく、設備コストが半分以下で済むという。

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