記事検索結果

東レ、小型電子部品向け感光性機能材料を開発（2008/11/27）

樹脂に感光性を付与することでアルカリ現像によるフォトリソグラフィー加工が可能になり、従来のスクリーン印刷法では限界とされるパターン線幅と間隔がそれぞれ20マイクロメートル(マイクロは100万分...

東京応化工業、米・オレゴン州に高純度化学薬品工場を完成（2008/11/13）

半導体製造プロセスのフォトリソグラフィー工程で用いるクリーンソリューションなど高純度化学薬品に特化した生産設備で、生産能力は年間約4500トン。

頂を目指して・凸版印刷の挑戦(下)利益率向上へ海外開拓（2008/10/3）

凸版はフォトリソグラフィー方式の製造方法を採用しており、インクジェット方式を採用する大日印よりも収率で高く、「収益力は当社の方が良い」(垣谷英孝取締役)と見ている。ただ、半導体フォトマ...

ケータイはカワル(5)薄く小さく(下)プロセス技術の積み重ね（2008/8/27）

エプソントヨコムは微小電気機械システム(MEMS)技術を応用、水晶素材にフォトリソグラフィーを施す独自の加工法でデバイスの小型、薄型化を図る。

エプソントヨコム、温度補償水晶発振器に振動子を搭載し量産（2008/7/22）

水晶素材にフォトリソグラフィーを施す微細加工技術を採用した。

水晶にフォトリソグラフィーを施す微細加工技術で小型の音さ型水晶片を作成。

東京応化、米で高純度化学薬品の生産設備を建設（2008/5/23）

【川崎】東京応化工業は22日、米国子会社のトウキョウ・オーカ・コウギョウ・アメリカ・インコーポレーテッド(TOKアメリカ社、オレゴン州、駒野博司社長)に半導体製造プロセスのフォトリソグ...

販路開拓コーディネート事業(4)ウエハー周辺露光用光源（2008/4/23）

現在の半導体製造ではフォトリソグラフィー技術にUVが用いられています。

次代をつくる(21)エプソントヨコム社長・宮澤要氏（2008/3/7）

「フォトリソグラフィーを使った微細加工技術『QMEMS』を進化させる。

大日印は同方式をフォトリソグラフィー方式よりも低コストで生産できるとして、10G向けでも採用することを決めている。競合の凸版印刷は8Gや10G向けでもフォトリソグラフィー方式をとる。

価格は従来の高細線回路形成に用いられていたフォトリソグラフィー法設備の約4分の1の数千万円に抑えられるという。