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パナソニックは半導体事業で京都府の統括拠点にある製造技術開発部門を富山県の工場に移し、開発から生産までの一貫体制を構築する。... パワー半導体やモバイル機器向け半導体など成長領域に経営資源を振り向け...

JSRは20日、米国半導体製造技術組合のSEMATECHと共同で、化学増幅型の感光性材料(フォトレジスト)を使って極端紫外線(EUV)露光し、線幅15ナノメートル...

日本を技術開発の主要な拠点として、水素ガス以外にも最先端技術の研究開発機能を強化する考え。 日本市場は海外への製造業の生産移管が進んでいるが、同社ではスピードは落ちても一定の市場成長は続き、ハ...

エルピーダメモリは広島工場(広島県東広島市)に次世代の半導体製造技術のEUV(極紫外線)露光装置用の新棟の建設を検討する。... 露光技術は、波長が短くなるにつれ、シリ...

JSRは2日、半導体製造工程で、1回のフッ化アルゴン(ArF)光源露光で回路線幅(ハーフピッチ)20ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細加工を行...

【仙台】東北経済産業局と東北地方の6県などは、半導体関連企業の技術者や営業担当者を対象に、半導体製造技術の基礎を学ぶ「半導体製造プロセス体験講座」を仙台市青葉区にある東北大学の西澤潤一記念研究センター...

女流理系漫画家「はやのん」さんの「キラリ研究開発」は、次回8月23日に掲載予定です。

次世代の半導体微細化技術と位置付けられている極端紫外線(EUV)光源を用いた露光技術だが、導入を検討する半導体メーカーは限られる。... このため実際にEUV露光装置を持つ、米国の半導...

【水戸】生体分子計測研究所(茨城県つくば市、岡田孝夫社長、029・839・4611)は24日、半導体先端テクノロジーズ(セリート、つくば市)と共同で、アルカリ現像液中の...

工場内に設置した複数のモジュールで温湿度、風量などの変化を検出し、製造装置や空調、照明などを制御して全体のエネルギー消費量が小さくなるようにする。... 半導体製造技術などを応用してつくる微小電気機械...

急ピッチで進む半導体の技術革新の動きをとらえ、半導体需要を回復の波に乗せたい考えだ。 ... 計画によると、技術支援事業として、10月をめどに半導体製造プロセス体験講座を予定。... 同施設は...

JSR、米の研究に参加 (2010/5/19)

JSRは18日、米国の半導体製造技術研究組合であるSEMATECH(セマテック)が行っている極端紫外線(EUV)リソグラフィー技術の開発プログラムに参加したと発表した。...

大阪製作所(大阪市此花区)に出力300ワットのレーザー発生装置を導入し、製造能力を従来比で1・5倍に拡大する。... このため、住友電工はNEDOの助成をもとに製造設備を増強。... ...

同センターは元東北大総長の西澤潤一氏(上智大学特任教授)が設立した半導体研究振興会の研究拠点だった。... 同センターにはウエハー製造や検査・測定、切断・組み付け設備などMEMSの製作...

半導体製造技術を用いて内蔵基板の厚みを大幅に薄くし、独自の誘電体薄膜材料技術を使って高容量を実現した。

ニッタは半導体製品の新製法「ナノインプリント技術」に応用できる側鎖結晶性ポリマー「インテリマー」の新型タイプを開発した。... ナノインプリントは露光装置を使わず、半導体に微細加工を施すため金型に作成...

大日本印刷は1日、米モレキュラーインプリントと回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の次世代半導体製造技術として有望なナノインプリントリソグラフィ技術の実用化に必要な、テン...

SEMI(米カリフォルニア州)は、09年12月に幕張メッセ国際会議場(千葉市美浜区)で開催する半導体製造技術に関するシンポジウム「SEMIテクノロジーシンポジウム200...

多摩川精機(長野県飯田市、萩本範文社長、0265・21・1800)は26日、富士通メディアデバイス(横浜市港北区)から圧電音叉(おんさ)型ジャイロセンサ...

ただ会社が大きくなるにつれて、丸岡好雄常務は「製造工程が分かっていても金型に触れたことがない、メンテナンスができないなど、苦手意識を持つ若手技術者が増えていた」ことを懸念していた。... LFだけでな...

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