プラズマ化学気相成長(CVD)法を利用し、プラズマ発生に使うマイクロ波と材料のメタンガスの流路を分けてプラズマを基板へ均一に照射可能にした。... プラズマCVD法のCNT製造は通常、...

絶縁材料は塗布型のため、従来の化学気相成長(CVD)法に比べ均一な膜が形成でき、大幅な工程短縮と生産性向上ができる。

この表面に、プラズマ化学気相成長(CVD)法で、厚さ約150ナノメートル(ナノは10億分の1)の酸化シリコン膜を堆積(たいせき)する。

プラズマ化学気相成長(CVD)法を使い、非晶質の炭化ケイ素(SiC)膜を作製する独自の手法で、シリコン量子ドットの粒径を制御し、積層化する。

単層カーボンナノチューブ(CNT)の高効率製造法で知られるアルコール化学気相成長(CVD)法と基板を急冷する独自の瞬間冷却法を組み合わせ水素を使わずに大面積で質の高いグ...

薄膜アモルファス太陽電池のロール・ツー・ロール実用化では、アモルファスの成膜に必要なシランガスをプラズマ化学気相成長(CVD)法で生成すると、必ず微粒子状のゴミが発生する。

「マイクロ波プラズマ化学気相成長(CVD)法」という薄膜を作る技術を使い、ダイヤモンドの層を3段に積み重ねた後、両端に電極をつけた。

とくに昨年4月、米ライス大学が発表したGNR生成法は、低コスト大量生産が期待でき話題を集めた。応用には課題が多いが、生成法を共有するオープンソース方式により、研究者一丸での解決を目指しているようだ。....

既存の半導体製造プロセスである化学気相成長(CVD)法を使う。... IBMはギガヘルツ帯で動く高速トランジスタや、多層グラフェンをCVD法で作る安価な製法を開発。... 日立製作所と...

富士通研は絶縁加工したシリコン基板上に、一般的な化学気相成長(CVD)法でグラフェン素子を作製した。

▽連絡先=事務局(011・590・1380) 【山形大学】 山形大学大学院理工学研究科は、機能高分子工学分野の佐野正人研究室が取り組むカーボンナノチューブ...

その後、化学気相成長(CVD)法を使うファイバー製造法が確立、現在では波長1・55マイクロメートル(マイクロは100万分の1)帯で同0・2デシベルまで低損失化が進み、9...

実際、化学気相成長(CVD)法で基板表面の垂直方向に直径10ナノメートル、長さ50マイクロ―100マイクロメートルの多層CNTを触媒から成長させることができた。

この新手法で、モバイルプロジェクターの主要部品であるマイクロ複眼レンズを作製した。... 半導体の微細加工を施したシリコンウエハー上に、熱化学気相成長(CVD)法でダイヤモンドの薄膜を...

高純度化学はスパッタリング用や化学気相成長(CVD)法としての薄膜材料などの製造販売が主力。

東京エレクトロンの装置技術と田中貴金属が持つリサイクル技術を利用し、化学気相成長(CVD)法で成膜されずに残ったものを回収、再利用する。... 実際のシステムは、東京エレクトロンがCV...

遠藤教授が開発した化学的気相成長(CVD)法はメタンを原料、鉄を触媒に使いCNTが生成される。

【触媒の活性改善】 大量生成で画期的な研究としては、産業技術総合研究所が開発した「スーパーグロース法」が挙げられる。... 化学気相成長(CVD)法の成長効率の低さや、純度の低...

【川越】高純度化学研究所(埼玉県坂戸市、宝地戸道雄社長、049・284・1511)は、半導体製造の前工程向けに化学気相成長(CVD)法で安定した成膜が可能なストロンチウ...

化学気相成長(CVD)法でCNTを合成する際、ヘリウムに水素を加えたガスを使うなど独自の条件を見いだした。 ... CVD法でCNTを合成する際、電気炉内に流すガスは一般にヘリ...