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記事検索結果
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半導体製造装置の部材は「石英」、「SiCパーツ(CVD-SiC)」、「シリコンパーツ」などがある。... 同社が提供する半導体製造装置向けに製造している治具・消耗品は「石英製品...
金属など固体をプラズマ化して蒸着する物理気相成長(PVD)法と、メタンなど気体を蒸着する化学気相成長(CVD)法を組み合わせて膜を開発した。 従来のC...
フェローテックホールディングスは、韓国の化学気相成長(CVD)―炭化ケイ素(SiC)事業から撤退する。... CVD―SiC事業は同社子会社アドマップ(岡山県玉...
三菱マテリアルはターボチャージャー(過給器)のタービンハウジングに使用される耐熱鋳鋼、ダクタイル鋳鉄の内径・外径加工に適した化学気相成長(CVD)コーテッド超硬材種「M...
同社の表面処理事業は、化学気相成長(CVD)膜で首位だが、PVD膜では他社の先行を許している。
プラズマ化学気相成長(P―CVD)法を用いてメタンなどを気体原料にプラズマで炭素触媒をステンレス基板表面に生成した。... P―CVDを用いてナノレベルで構造制御することで、表面炭素の...
三菱マテリアルはターボチャージャー(過給器)のタービンハウジングに使用される耐熱鋳鋼、ダクタイル鋳鉄の内径・外径加工に適した化学気相成長(CVD)コーテッド超硬材種「M...
霧(ミスト)状の溶液を使い薄膜を形成する「ミストCVD(化学気相成長)」技術を生かす。... 同社はミストCVD技術により、高性能で生産コストを抑えられる酸化ガリウム製...
タンガロイ(福島県いわき市、木下聡社長、0246・36・8501)は26日、鋼旋削加工用の化学気相成長(CVD)コーティング材種「T9225=写真」を発売したと...
時田シーブイディーシステムズの成膜加工技術は化学気相成長法(CVD)を用いる。... CVDによる成膜はイットリウムと酸素を反応させてワークに膜を作るため、炉内を高温にする必要がある。
三菱マテリアルは高能率加工用の両面インサート(刃先交換チップ)式ラジアスカッター「WJXシリーズ=写真」に、鋼・ステンレス鋼転削加工用の化学気相成長(CVD)コ...
また同工具に、鋳物の高速加工でも安定した加工性能が得られる化学気相成長(CVD)材種「T515」と、多様な被削材で安定した加工ができる物理気相成長(PVD)材種「AH7...
(敬称略) 【重点研究開発助成(塑性加工)】▽早稲田大学理工学術院基幹理工学部・機械科学・航空学科/教授川田宏之「引抜き成形を用いたカーボン...
中でも、半導体製造プロセスに使用される石英製品、セラミックス製品、シリコンパーツ、炭化ケイ素シリコンカーバイド(CVD‐SiC)製品といったマテリアル製品はスマートフォン、携帯端末やデ...
新明和工業が開発したコーティング装置は、工具向けなどの量産に使われる「熱フィラメントCVD」という化学気相法を使う。
機能簡素化、使いやすく アルバック東北(青森県八戸市、池田和夫社長、0178・28・7693)は、アルバックグループの生産拠点として、ディスプレー...
従来主流の化学気相成長(CVD)による多孔質基材上への成膜は基材の特性に大きく依存するため、安定性に欠けていた。