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クリーン・テクノの製造装置はフィルムの上に数百マイクロメートル(マイクロは100万分の1)幅で位相差膜をストライプ状に形成する。
極超短波(UHF)帯を用いたICタグ用ICに、非接触ICカード用ICを組み合わせたタイプと、磁気ストライプを組み合わせたタイプの2種類。
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クリーン・テクノの製造装置はフィルムの上に数百マイクロメートル(マイクロは100万分の1)幅で位相差膜をストライプ状に形成する。
極超短波(UHF)帯を用いたICタグ用ICに、非接触ICカード用ICを組み合わせたタイプと、磁気ストライプを組み合わせたタイプの2種類。
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