【南大阪】益岡産業(大阪市西区、益岡義啓社長、06・6578・1341)は、自社ブランドの半導体製造装置用シール製品(写真)を7月中旬に発売する。... 半導体製造プロ...

【仙台】東北経済産業局と東北地方の6県などは、半導体関連企業の技術者や営業担当者を対象に、半導体製造技術の基礎を学ぶ「半導体製造プロセス体験講座」を仙台市青葉区にある東北大学の西澤潤一記念研究センター...

★開発の狙い 「半導体製造装置のガス供給系で中核となる流量制御器にチャレンジしよう」。... 「高温250℃対応圧力制御式ガス流量制御器」は半導体製造プロセスで重要となる特殊材料ガス...

日立製作所は、10ギガ―30ギガヘルツ(ギガは10億)の周波数帯域(準ミリ波帯)を使う無線通信システム向けに、シリコン系半導体を用いた送受信回路を開発した。化合物半導体...

過酸化水素は、日常生活の殺菌や半導体製造プロセスの洗浄など幅広い用途を持つ。... だが、直接製造法は、高圧で爆発の危険があるため困難を伴う。 ... 触媒も工夫し、10%超...

94年の半導体プロセス専用除害装置を手始めに97年にはフッ素化合物の同時除害対応機種を製品化。... 除害技術は半導体に限らず液晶、発光ダイオード(LED)、太陽電池製造分野においても...

半導体製造プロセスでは、半導体メーカーごとに製造装置や材料の組み合わせが異なるため、プロセス材料の最適化が必要になる。... 半導体受託製造会社(ファウンドリー)の成長が著しい台湾や半...

計画によると、技術支援事業として、10月をめどに半導体製造プロセス体験講座を予定。... 同施設はクリーンルームを備え、半導体製造技術と微細加工技術を組み合わせた多様な工程の加工や試作ができる。...

現行の半導体製造プロセスで作るため、生産コストを安く抑えられる。... シャープとアルバックは、RRAM素子を8インチウエハー上に均一に製造する半導体のプロセス技術を開発した。... RRAM素子に、...

【優秀賞】 《高純度SiC製プロセスウエハーの開発=ブリヂストン》 近年の半導体製造プロセスではデバイスチップの微細化や生産性向上のため、より高温下での熱処理や高腐食性ガス・溶...

東京エレクトロンは25日、回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の半導体製造プロセスに用いる新プラズマ技術を採用したエッチング装置を開発し、受注を始めたと発表した。 ...

JSRは22日、次世代半導体製造プロセスであるダブルパターニング向けに、トップコート不要の自己架橋型フッ化アルゴン(ArF)フォトレジストを開発したと発表した。従来品と比べ製造プロセス...

既存の半導体製造プロセスである化学気相成長(CVD)法を使う。... 二つの量子ドット(微小な半導体粒子)間をグラフェンでつないだ素子を作製した。

製造設備を完全にクリーンルーム化し、自動化を進めることで高い品質要求に対応する精密製造を実施。40ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造プロセスの本格的な立ち上がりに伴う、...

ニコンは回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の半導体製造プロセスに採用するフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置の新機種「S620」の出荷を...

【フジキン/気体作動高耐久ダイレクトダイヤフラムバルブ】 フジキンは、耐久性と応答性に優れた半導体製造装置用バルブ「気体作動高耐久ダイレクトダイヤフラムバルブ」を開発した。... 半...

東芝はASMLが開発した計算機リソグラフィー製品を回路線幅30ナノメートル(ナノは10億分の1)世代、同20ナノメートル世代の半導体製造工程に採用する見通し。... 半導体の微細化に伴...

台湾TSMCは6日、フランス原子力庁電子・情報技術研究所(CEA―LETI)によるIC製造向けマルチ電子ビームリソグラフィの研究に参画すると発表した。回路線幅22ナノメートル(...

JSRは29日、次世代半導体製造プロセスであるダブルパターニング向けに、1回目に形成したパターンを保護する工程を簡略化できるフォトレジストを開発したと発表した。熱硬化させると2回目のフォトレジストに溶...

現在主流の結晶系太陽電池セルの製造工程には、蒸着プロセスが欠かせない。... そこで同社は半導体製造プロセスで使われてきたシール材「カルレッツ」を太陽電池向けに発売した。... 専用品を早々に市場投入...