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記事検索結果
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ただ既存技術を使った微細化は限界に近く、早晩、3Dのほか、EUV(極紫外線)露光やArF液浸の多重露光といった新技術が必要になる。
「型をウエハーに押し当ててハンコのような要領で回路パターンを転写するナノインプリント技術は、ArF液浸の多重露光などの従来技術に比べ、装置価格も半導体製造コストも安くできる。... 15年度にはArF...
現状では経営資源を注ぎ込む領域ではないと認識している」 ―既存のArF液浸技術を磨き上げる方針です。 「今後の微細化に向けた露光技術では、ArF液浸の多重露光を進化...
幅広いニーズに対応するために現行のArF液浸装置の進化も重要と考えている。また周辺装置とも連携し露光工程を最適化する『ホリスティックリソグラフィー』の取り組みも強化する」 ―ArF液...
【久しぶりに注目】 性能で蘭ASMLをしのぐというArF液浸装置を投入したニコン。... また00年代半ばに実用化されたArF液浸技術でもASMLがリードした。
すでに実用化している「ArF液浸」を進化させる。... 微細化を進めやすいほか、高精度レンズが不要になるため装置価格も「先端のArF液浸露光装置の半値程度」(業界関係者)という。...
ArF液浸技術を極めることでシェアを奪取する」と鼻息も荒い。 ... 光の波長が短いほど微細な回路を描けるため光源はg線からi線、KfF、そして現在のArFへと短波長化を続けてきた。...
EUVの波長は13・5ナノメートルと現在主流のArF(フッ化アルゴン)光源と比べ約10分の1と短い。... キヤノン低迷の要因となったのは「ArF液浸」と呼ぶ先端の露光技術開発で後れを...
次世代技術の極端紫外線(EUV)リソグラフィーの普及が遠のく中、既存のフッ化アルゴン(ARF)液浸リソグラフィー工程を2回以上繰り返すマルチパターニングを使い、20ナノ...
当面は主流であるフッ化アルゴン(ArF)レジストで、世界シェア4割以上を目指す」 ―アナログ技術に付加価値を見いだす戦略を進めていますね。
ネガ型レジストは半導体製造におけるArFエキシマレーザーを光源にした液浸リソグラフィーに使われる。... 富士フイルムはArF液浸レジストで約20%のシェアを持つと推定される。12年のArF用...
業界で最後発組ながら先端のフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザー対応レジストでは、JSRや東京応化工業などと世界シェアのトップ争いを演じている。 ... 投資額は1...
露光装置はウエハー上に回路パターンなどをレーザー光で焼き付ける装置で、ニコンはその中でも先端とされるArF液浸を強みとする。
微細な配線の形成に使うフッ化アルゴン(ArF)液浸レジスト用ステッパー(露光装置)は、1台の価格が約50億円する。... フォトレジストの世界最大手であるJSRは、信越...
半導体の微細化にも対応するため、ArF液浸の効率を一段と引き上げ「450ミリメートルでも現行の300ミリメートルと同等のスループット(処理能力)を実現する」(牛田氏)と...
現在の先端露光装置は光源に「ArF」と呼ばれるレーザー光を用いながら、レンズと半導体ウエハーの間に水をはさんで回路を微細化する「液浸」を主流にする。... そのため、ASMLは現行で先端を行くArFよ...
