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124件中、7ページ目 121〜124件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.006秒)
三菱ガス化学、線幅22ナノに対応のレジスト材を開発 （2009/3/10）
三菱ガス化学は9日、線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の次々世代の半導体製造プロセスに対応したレジスト材料を開発、サンプル出荷を始めたと発表した。新製品は半導体の製造工程で...
東京応化工業、米・オレゴン州に高純度化学薬品工場を完成 （2008/11/13）
半導体製造プロセスのフォトリソグラフィー工程で用いるクリーンソリューションなど高純度化学薬品に特化した生産設備で、生産能力は年間約4500トン。
東京応化、米で高純度化学薬品の生産設備を建設 （2008/5/23）
【川崎】東京応化工業は22日、米国子会社のトウキョウ・オーカ・コウギョウ・アメリカ・インコーポレーテッド(TOKアメリカ社、オレゴン州、駒野博司社長)に半導体製造プロセスのフォトリソグ...
