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記事検索結果
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富士フイルムは、極端紫外線(EUV)レジスト事業を本格的に立ち上げ、2024年までに世界シェア10%を目指す。
全自動ダイレクトイメージング(DI)露光装置の生産能力を従来比40%増にするほか、敷地内に新工場を建設してマスク検査用極端紫外線(EUV)光源部品の生産体制を構...
(微細化で優れる極端紫外線〈EUV〉露光装置が注目を集めるが)必ずしもEUVで製造した最先端の半導体だけが市場で求められているわけではない。
一方、コータ・デベロッパ(塗布現像装置)は極端紫外線(EUV)に対応した装置が必要となるなど、付加価値が高まっている」 ―米中貿易摩擦がもたらす影響を...
極端紫外線(EUV)露光対応フォトレジストの生産を開始したほか、数年内にも5Gアンテナ一体型のディスプレー用フィルムを発売する。
「フォトレジスト用ポリマーの生産能力は順次増強を実施しており、次は極端紫外線(EUV)を含む最先端技術向けの同ポリマーを増強する方向で検討している。
AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。
2019年には最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥検査装置(写真)を開発。
大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。
半導体製造装置分野では、紫外線で効率的に微細な加工をする極端紫外線(EUV)露光装置が話題を集める。
住友化学は22日、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストの開発・評価体制を強化すると発表した。
レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。
