【執行役員精密・電子事業カンパニー新事業推進統括部長】戸川哲二(とがわ・てつじ)氏 【横顔】半導体製造装置の開発を担当し、化学的機械研磨(CMP)装置...

現在は発光ダイオード(LED)基板やパワー半導体の生産などに欠かせない化学的機械的平坦化(CMP)用途の研磨パッドなど、高品位研磨材が好調だ。

CMPスラリーなど半導体製造前工程に使う材料は自動車の電装化なども追い風となって市場が拡大している。

「半導体製造装置向けの化学的機械研磨(CMP)や真空ポンプは、半導体業界の設備投資動向に左右される。

精密・電子事業の代表製品であるドライ真空ポンプ、化学的機械研磨(CMP)装置は、生産量が半導体業界の需要動向に大きく左右される。... CMP装置は数万点ある部品をクリーンルーム内でユ...

パソコン向けは大きく落ち込んだが、スマートフォンとタブレット端末の普及により、薄肉タイプの光学フィルムの採用が進んだことに加え、フォトレジストやCMPスラリーといった半導体製造に使う製品も販売が伸長し...

通常、SiCウエハーはスライス後に、砥石による研削、遊離砥粒によるラップ加工、化学機械的研磨(CMP)の順で加工する。 同社の新技術はラップ工程を不要にし、CMP工程...

同社は微小電気機械システム(MEMS)デバイスのCMP受託加工を手がけている。... CMP加工装置3台を新規導入し、計11台体制にした。... 土肥社長は「CMP後の接合工程までを含...

表面の荒れたシリコンに高速の原子ビームを当てて高精度に平滑化することにより、ドライプロセスで化学的機械研磨(CMP)と同程度の平滑な表面を得られる。

(敬称略) 【振興賞・論文賞】▽「銅の超平滑化技術に関する研究 ナノバブル水と真空紫外光を用いた仕上げ研磨」桐野宙治、榎本俊之(ク...

一方、半導体製造の前工程に使うフォトレジストやCMPスラリーと呼ばれる研磨材などは、半導体の微細化により製造工程で使用頻度が増える傾向にある。JSRは「半導体市場は堅実な成長を見込む」(小柴社...

このほかデジタル製品用途では、半導体製造に使うフォトレジストやCMPスラリー(化学的機械研磨材料)が伸びている。

日立化成工業はリチウムイオン二次電池(LIB)用負極材、銅張積層板、配線板、タッチパネル用充填フィルム、CMPスラリー(化学的機械研磨材料)、太陽電池用ボンディングフィ...

既存の事務所を格上げし、半導体業界向けCMPスラリー(化学的機械研磨材料)などの需要増に対応していく。... CMPスラリーは半導体製造工程で基板を平らにする際に使う。

国立環境研究所は、カタールのドーハで26日に始まる「国連気候変動枠組み条約第18回締約国会議(COP18)」と「京都議定書第8回締約国会合(CMP8)」で、アジアの低炭...

まずCMPスラリー(化学的機械研磨材料)を皮切りに、14年から現像液やクリーナー、エッチング液も順次生産する。... CMPスラリーは半導体製造工程で基板を平坦にするため使うもので、半...

日本精密電子は半導体ウエハーに回路を書き込んだ後に表面を平たんにするCMP(化学的機械的平たん化装置)のメーカーに対し、ウエハーを固定して端の反り返り(エッジバウンド)...

富士フイルムは30日、台湾の子会社で半導体製造プロセス用のCMPスラリー(化学的機械研磨材料)の商業生産を始めたと発表した。... 台湾での拡販も含め、2012年度にCMPスラリーの売...

さらにミャンマーのヤンゴン管区幹部によると、同国でCMP(カッティング・マニュファクチャリング・パッキング)と呼ばれる委託加工ビジネスについて、「税金減免期間を現行の3年から8年に延長...

日立化成工業は台湾にSTI用半導体回路平坦化用研磨材料(CMPスラリー)の生産拠点を新設し、2013年4月に生産を開始する。