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従来の物理気相成長(PVD)法や化学気相成長(CVD)法、バナジウム炭化物の被膜を形成するTD法に比べて処理費は半分以下に抑えられる。

これまでの研究で化学気相成長(CVD)ダイヤモンド膜を用いたドライプレス加工の実用化を進め、アルミニウムや銅だけでなく、厚さ0・5ミリメートルのステンレス板でも10万回のせん断加工を達...

真空装置や太陽光発電パネル製造装置をはじめ半導体製造時に使われる化学気相成長(CVD)装置やスパッタリング装置向けの熱電対や電気ヒーターも手がける。 ...

これに豊田昌宏大分大学教授と共同研究して高速化学気相成長(CVD)技術によりガスからナノカーボン材料を生成する方法を確立した。

化学気相成長(CVD)法では鋳鉄加工用の超硬材種「MC5020」を追加。物理気相成長(PVD)法では一般鋼からステンレスまで幅広い被削材に対応した超硬材種「VP15TF...

両材種とも化学気相成長(CVD)コーティングを施している。

【千葉】ユーテック(千葉県流山市、本多祐二社長、04・7150・5731)は、最小直径1マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の粉体微粒子の表面にプラズマ化学気相...

同シリーズに対応したインサート(刃先交換チップ)として、物理気相成長(PVD)コーティングによる超硬材種「VP15TF」も追加発売した。不安定・低剛性切削など、従来の化...

従来はメタンなど炭素含有ガスをプラズマで分解・合成するプラズマ化学気相成長(CVD)法が主流。だが、CVD法は大型設備が必要なことや反応時間が遅いこと、導入・運転コストが高いことなどが...

13年8月までに高速CVD法による2種類のグラフェンの量産と試作ができる装置や分析機器などを導入する。... 日本政策金融公庫神戸支店が同社の優れた技術力や新規性、成長性を評価し、資本性ローン(...

独自の急速加熱拡散プラズマ化学気相成長(CVD)法を用いて、触媒となるニッケルで作った電極間のナノメートルスケール(ナノは10億分の1)リボン構造(ナノバー&#...

「パターン再成長」と名付けたこのプロセス技術では、まず化学気相成長(CVD)法により、銅基板の上に炭素原子の2次元結晶であるグラフェンの層を作製。... さらに露出した銅基板の上に六方...

化学気相成長(CVD)法で合成する際に微量な水分を加えて触媒の活性を高めるスーパーグロース法という技術を使い、従来よりも高純度のCNTを低コストで製造しようと、日本ゼオンと共同で研究を...

超硬合金母材と化学気相成長(CVD)コーティングの組み合わせで耐摩耗性と耐欠損性を高め、長時間安定して切削加工できるようにした。

化学気相成長(CVD)で製膜時にプラズマ領域から基板を離す方法で、従来法より劣化率を9ポイント改善することができた。

描画速度は毎秒0・1ミリ―0・5ミリメートルで、レーザー化学気相成長(CVD)装置より50倍以上速い。... 新製品は大型テーブルとの組み合わせで第10世代の大型基板まで対応できるため...

今後、東南アジアやインドでも半導体関連産業などが立ち上がると見ており、現地の研究機関向けに化学気相成長(CVD)装置やドライエッチング装置などを提案。

化学気相成長(CVD)法で多層膜を形成。... コーティングは物理気相成長(PVD)法を採用。

タンガロイ(福島県いわき市、0246・36・8501)は、化学気相成長(CVD)コーティング材種「T9100」シリーズ(写真)を使った鋼旋削用インサート...

DLC膜を作るプラズマ化学気相成長(CVD)法は一般的な技術で、大面積化しやすいという。

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