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記事検索結果
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『液浸露光』や『EUV(極紫外線)露光』などの技術を使う他社の装置に比べて安価なナノインプリント装置を育てていく」 【記者の目/再成長へ真価問われる】...
半導体チップの回路パターンの微細化に必要なEUV露光技術の需要拡大に対応する。... 生産能力を増やすのは「EUV露光用フォトマスクブランクス=写真」と呼ばれる部材。... EUV露光技術は「...
同社は長年の研究開発を背景に、EUVフォトレジストでは台湾大手ロジックのEUVプロセスにおいて50%以上のトップシェアを誇り、韓国大手メーカーのEUVプロセス向けでも高いシェアを獲得している。...
研究開発も充実させたい」 ―ベルギーに立ち上げた極端紫外線(EUV)用フォトレジストの合弁会社が、始動3年目を迎えます。 ... EUVレジストも、...
さらに極端紫外線(EUV)リソグラフィーなど次世代リソグラフィー向けの材料開発の評価装置としても訴求する。
電子事業は需要が見込める極端紫外線(EUV)露光用のフォトマスクブランクスの供給体制を拡充する。
旭硝子グループのAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)は5日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けにフォトマスクブランクスを増産すると発表した。
【EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置「ABICS E120」】 微細な半導体の回路パターン転写を可能にする極端紫外線(EUV)を使った次世...
【レーザーテック・楠瀬治彦副社長/受注も好調】 超高真空下での極端紫外線(EUV)マスクブランクス欠陥の検査装置開発は初めて。
極端紫外線(EUV)用フォトレジストの量産を始めた。 実際、EUV露光装置の生産台数は年数十台。
半導体の品質向上にスラリーで貢献したい」 ―極端紫外線(EUV)リソグラフィーの関連事業の立ち上げを検討しています。 「EUV光源を使ったフォトリソ...
現行の10ナノメートルチップと同じ「ロー・パワー・プラス(LPP)」プロセスで製造され、より微細な電子回路作製への適用が期待される極端紫外線(EUV)露光装置は使わない...
「ベルギーの研究機関IMECと設立した工場でEUV用フォトレジストの量産を始めた。... 特に評価されているのが、実際にEUV露光装置で品質を保証できる優位性。... インプリアはEUVを吸収しやすい...
また、従来の半導体検査用光源より波長が短い極紫外線(EUV)光源を世界で唯一製品化するなど、独自技術を持つ。 ... より短波長のエナジティックのLDLSやEUV光源...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外線(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ&...
競争力を保つためにも、両拠点の増強が現実的だろう」 ―極端紫外線(EUV)による生産技術に向け、新たな材料も求められています。 「ベルギーの研究機関...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は極端紫外線(EUV)パイロット光源で稼働率80%以上の稼働率を確認した。現在開発中のEUVスキャナー用レ...
7ナノと同じように極端紫外線(EUV)のリソグラフィーを使いつつ、ナノメートルの厚みのシリコンシートにトランジスタを作り込み、それらを積層して高密度の集積回路を製造する手法にめどをつけ...
【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E1...
