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最先端の極端紫外線(EUV)向けでもBARC同様にレジストと基板の間に塗布するEUV下層膜を展開。

JSR、米インプリアを買収 (2021/9/20 総合3)

 JSRは極端紫外線(EUV)用メタルレジストに強みを持つ米インプリア(オレゴン州)を買収する。

また同工場で、2021年度中にEUV(極端紫外線)レジスト用ポリマーが生産できるパイロット設備を稼働する予定で、半導体先端技術への対応を進める。

最先端のEUV(極端紫外線)レジスト用モノマーも、レジストメーカーの採用が徐々に拡大している。

住友化学、韓でフォトレジスト 需要増・BCP対応 (2021/9/1 素材・医療・ヘルスケア)

大阪工場では既存建屋に液浸ArFと極端紫外線(EUV)レジストの製造設備を増設し、23年度上期に稼働する。

ADEKAは30日、極端紫外線(EUV)露光向け光酸発生剤の生産能力を従来比2倍以上に引き上げると発表した。

最も競争が激しいのは極端紫外線(EUV)露光プロセスで、JSRや住友化学などフォトレジスト各社は開発体制を強化している。

ArF(フッ化アルゴン)液浸露光向けを中心に販売は好調で、今後は5Gなどの普及で需要増加が見込まれる最先端の極端紫外線(EUV)露光向けを拡販する。

「極端紫外線(EUV)など先端材料に加え、フッ化クリプトン(KrF)をはじめ既存材料も伸びた」と手応え。

【シングルナノ】 同社は半導体回路の微細化に伴う光源の短波長化に合わせ、次世代技術とされる極端紫外線(EUV)を含むあらゆる光源に対応してきた。

同社は液浸ArFの次の極端紫外線(EUV)露光用レジストで出遅れていたが、最近は「複数社に採用が決まり、追い上げができてきた」(勝田修之電子材料事業部長)と手応えを語る。

最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジスト樹脂材に、不純物が混ざらない低メタル化技術を進展させる。

融点2334度Cの特徴を生かし、最先端の極端紫外線(EUV)を用いた半導体製造プロセス関連で採用を増やす。

しかし、EUV(極端紫外線)装置といった最先端のリソグラフィー装置はオランダ企業の独占状態にある。

JSRは液浸フッ化アルゴン(ArF)向けフォトレジストで世界シェアトップ、最先端の極端紫外線(EUV)向けフォトレジストでも上位に位置する。

大日本印刷は、キオクシアホールディングス(旧東芝メモリホールディングス)、キヤノンと共同で開発を進める「ナノインプリントリソグラフィ(NIL)」での半導体製造が極端紫外線(EUV)露光と比べ消費電力を...

従来の露光方法向け製品は複数社が供給しているが、最先端の超微細回路を実現するEUV(極端紫外線)露光向けは三井化学が唯一の“正規品”サプライヤーとなった。

最先端の極端紫外線(EUV)を用いた半導体製造プロセス向けで、ウエハーに回路図を焼き付ける時の原版(フォトマスク)の母材市場に新規参入。

半導体回路の微細化に欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」への期待感が高まっている。

同研究所は、回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)以下を目指す蘭ASMLの極端紫外線(EUV)露光装置を2023年に稼働予定。

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