その後もフォトマスクブランクス、フッ化アルゴン(ArF)レジスト、多層膜材料、極端紫外線(EUV)レジストなどを手がけた。

特にEUV(極端紫外線)などの先端材料が中心になるが、既存のKrfやArfも車載用途で需要が高まっているので積極的に増強していく」 ―石化再編の機運や脱炭素対応の重要...

2ナノメートルノード以細の半導体の量産には、従来主流だったフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源とする露光技術を超える高度な材料選択とプロセス制御の知識が必要になる。

EUV露光プロセスではこれまでのフッ化アルゴン(ArF)液浸など旧来型の露光装置向けと異なり、ペリクルの耐熱性を高める必要があった。

半導体業界の需要は2024年度には回復するとみており、材料の出荷量も増えると考えている」 ―半導体分野では、レジストポリマーは最先端の極端紫外線(EUV)やフッ化アル...

フッ化アルゴン(ArF)を用いた露光装置の据え付けが延期することなどを勘案した。

フッ化アルゴン(ArF)などEUVよりも旧世代の光源に多く使われており、自動車や産業機器など幅広い製品に搭載される半導体の製造に用いることから、中長期的な需要拡大が見込まれる。 ...

ArF液浸露光装置の需要が好調だ。... 一方、ArF液浸などEUV以外の露光装置の今期の売上高見通しを引き上げた。... 光源に化合物のフッ化アルゴンを用いたArF液浸露光装置は、EUVより一世代前...

■政治・経済■ ◇5月の鉱工業生産・出荷・在庫確報(13時半、経産省) ◇岸田首相が欧州訪問から帰国 ■国 際■ ...

EUVの1世代前「ArF液浸」露光装置も追加。... 東京エレクトロンはEUV用塗布・現像装置を、ニコンがArF液浸露光装置を扱っている。

日本の半導体材料各社は、韓国への投資を積極的に続けており、東京応化工業は22年までに韓国仁川市の拠点を増強し、EUVやフッ化アルゴン(ArF)露光向けを中心にレジストの生産能力を18年...

EUVに次ぐ微細加工が可能なArF液浸露光装置でシェア2位のニコンも同42%の増益だった。

例えば、EUVより一世代前の「ArF液浸」露光装置はニコンが世界シェアの一角を占める。ArF液浸を複数台利用すればコストはかさむものの、1ケタナノメートル台の半導体が製造可能だ。... EUVやArF...

30年度の売上高倍増に向け、既存事業では精密洗浄サービスの拠点拡充や、フッ化アルゴン(ArF)光源レジスト用ポリマーおよび洗浄用薬剤などの増産を検討。

半導体露光装置も3次元(3D)構造の半導体に対応したArF液浸露光装置を主軸に日本やアジアの顧客を新規開拓する戦略が奏功し、販売が増えている。

光源にフッ化アルゴン(ArF)を用いた装置がドライ・液浸ともに伸びている。

後工程向け製造装置・材料、新たな商機見込む ニコンが主力のArF液浸露光装置の最新機種を、日立ハイテクが直径12インチ(約300ミリメートル)のダ...

「1β」の開発には3年間に毎年10億ドル規模の投資を行い、韓サムスン電子などが採用している先端の露光技術「極端紫外線(EUV)」を使わず、成熟した「ArF液浸」の技術を用いて開発に成功...

ArF(フッ化アルゴン)レジスト用モノマーは世界シェア首位でEUV(極端紫外線)レジストにもモノマーを供給。

フッ化アルゴン(ArF)の液浸やドライを中心に新品が伸びる。