東芝、次世代露光装置を採用−メモリー製造コスト削減

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  半導体製造は一層の製造コスト削減がポイント（三重県四日市市の東芝四日市工場）

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東芝は２０１７年度にも、キヤノンと共同開発した次世代半導体露光装置をＮＡＮＤ型フラッシュメモリーの量産ラインに採用することを決めた。「ナノインプリント露光（用語参照）」技術を使った装置で、量産での利用は電機業界初。東芝はメモリーの製造コスト低減の切り札と位置づけ、経営再建の柱であるメモリー事業の収益力向上につなげる。キヤノンはナノインプリント露光装置を次世代の主力事業に育てる

■再建の柱、収益力上げる

東芝は１７日に建設を発表した新工場（三重県四日市市）にナノインプリント露光装置を導入する。記憶素子を積層する３Ｄ（３次元）構造ＮＡＮＤメモリー生産の露光工程の一部で活用する。

ナノインプリント露光装置は、はんこを押すような要領で回路パターンを形成する。既存のフッ化アルゴン（ＡｒＦ）液浸露光装置で２回必要になる処理が１回で済む。装置価格もＡｒＦ液浸...