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記事検索結果
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数年後に到来する回路線幅10ナノメートル台前半の半導体製造には不可欠とされるが、光源やフォトマスクなど周辺材料に課題もある。
その後、フォトリソグラフィー技術を使った細胞表面に傷を焼き付け、導電膜をはがす。... フォトリソグラフィーの応用により、数マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の精度で複数の細...
フォトマスクを通して光を照射することにより、現像などの処理を必要とせずに表面の形状を変えることができる。現像が必要なフォトリソグラフィーや微小の鋳型を使うナノインプリント技術とは異なる簡単な微細加工法...
台湾ではフォトマスクの展開にも注力するなど、既存の印刷技術を武器に活躍の場を広げている。... 半導体フォトマスク分野では昨年4月、台湾の新竹サイエンスパーク内で新工場が稼働。... 「海外マーケット...
コンピューターグラフィックス(CG)と同様に仮想化した物体を計算し、フォトマスクを通した光で画像を結ぶ。... 同社は「フォトリフラクティブ材料」と呼ぶディスプレーに塗工する有機ポリマ...
凸版印刷は、米IBMと共同で回路線幅14ナノメートル(ナノは10億分の1)に対応した半導体フォトマスク製造プロセスの共同開発契約を結んだ。... 2012年中にIBMのバーリントン・フ...
【川越】テクノビジョン(埼玉県川島町、高比良葦人社長、049・299・1385)は半導体や液晶露光マスク用の洗浄装置「TWC―300=写真」を19日に発売する。... 同装置は...
大日印ではここ数年、液晶カラーフィルター向けで兵庫県姫路市や堺市堺区に、先端フォトマスク製造で台湾・新竹サイエンスパーク内にそれぞれ新工場を建設するなど「エレクトロニクス部門」の設備増強が続いていた。
フォトマスク事業が営業黒字化したほか、カラーフィルターも前年同期比約20%増収となるなど好調だった。 ... カラーフィルターが同42%増収と伸びる一方で、フォトマス...
旭硝子は6日、薄膜トランジスタ(TFT)液晶ディスプレー(LCD)製造に用いる大型フォトマスク用石英基板(写真)に参入すると発表した。... フォトマス...
半導体メーカーに発光ダイオード(LED)用のサファイアウエハーの評価や露光工程のフォトマスクのリサイクル評価を提案する。
凸版印刷は9日、朝霞フォトマスク工場(埼玉県新座市)内に米IBMと共同開発した回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)、20ナノメートル半導体向けフォトマスクの製...
ただ、1台100億円とも言われるEUVは開発費負担が大きく、光源やフォトマスクなど周辺材料の技術的課題も少なくない。
