記事検索結果

接着シート、溶剤フリーで常温流通東洋紡など開発（2023/12/20 素材・建設・環境・エネルギー２）

高耐熱接着シートは電子部品の搭載点数の増加や回路の高集積化で需要が拡大しており、環境負荷が低減する製品も求められている。

リンテック、耐熱性2倍のフォトマスク用防塵カバー開発（2023/12/20 素材・建設・環境・エネルギー２）

リンテックは極端紫外線(EUV)露光装置向けに、フォトマスク(半導体回路の原版)の防塵カバー「ペリクル」を開発した。... リンテックは半導体回路パ...

経産省、AI用半導体開発でPFNなどに200億円助成（2023/12/19 総合２）

回路線幅が5ナノメートル(ナノは10億分の1)で、低消費電力と大規模計算を両立できる半導体の開発を目指す。

卓越―現代の名工(5)電子応用機械器具組立工・矢野泰三氏時計組立工・深井英夫氏（2023/12/19 モノづくり）

「電子回路設計やプログラミングなど、好きなことができる部署にたまたま配属された」と振り返る。

米グーグル、AIアプリを高速化演算装置開発（2023/12/19 電機・電子部品・情報・通信２）

TPUはテンサー・プロセッシング・ユニットの略で、グーグルが独自に開発した特定用途向け集積回路(ASIC)。

卓越―現代の名工(5)電子応用機械器具組立工・矢野泰三氏時計組立工・深井英夫氏... （2023/12/18 総合１）

「電子回路設計やプログラミングなど、好きなことができる部署にたまたま配属された」と振り返る。

23年超モノづくり部品大賞/ものづくり生命文明機構理事長賞太平洋工業（2023/12/18 生活インフラ・医療・くらし）

回路に防湿塗装をし吸湿剤も加えるなど対策をした。

復権半導体/SUMCO会長兼CEO・橋本真幸氏ウエハー増産に備え設備投資（2023/12/18 素材・建設・環境・エネルギー）

「国内新工場はいずれもエピタキシャルウエハーの製造設備を導入し、回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の先端ロジック半導体向けが中心。

フォトマスク不要の半導体装置ウシオ電機、米アプライドと開発へ（2023/12/18 電機・電子部品・情報・通信）

ガラス基板にも対応ウシオ電機は半導体製造装置最大手の米アプライドマテリアルズと共同で、フォトマスク(半導体回路の原版)を必要としないデジタルリソグラフィー技術...

復権半導体/芝浦メカトロニクス社長・今村圭吾氏「凍結洗浄技術」でコスト減（2023/12/18 電機・電子部品・情報・通信）

25年の竣工を目指し、前倒しで計画を進める」 ―フォトマスク(半導体回路の原版)向け洗浄装置の新製品を24年に発売予定です。

ミツミ電機、微細化した電池保護IC 過電流検出精度25%向上（2023/12/18 電機・電子部品・情報・通信）

回路の線幅の微細化を進めるなどして過電流検出精度を同社既存製品に比べ約25%高め、「世界最高」(同社)水準を実現。保護回路基板の発熱を大幅に低減できる。... 保護回路基板の配...

コーセル/FA制御機器向け交流―直流電源（2023/12/18 新製品フラッシュ２）

回路方式を変更し、インバーターの損失を抑えたことなどで高効率化を達成。

三井化学、“次世代EUVペリクル”25年にも実用化半導体微細化に対応（2023/12/15 総合１）

ペリクルはフォトマスク(半導体回路の原版)の表面に装着する薄い保護膜。

経営ひと言/信州大学・宮地幸祐准教授「韓国すさまじい」（2023/12/15 科学技術・大学）

2024年に米国で開幕する「国際固体素子回路会議」(ISSCC)は採択率が低いことで有名。

花王、バイオ没食子酸を商用化ブドウ糖発酵生産（2023/12/14 生活インフラ・医療・くらし）

酸化防止剤や半導体回路形成の原料などに使用され、バイオ没食子酸の商業生産は世界でも初という。

産総研、トランジスタ低温動作の仕組み解明（2023/12/14 科学技術・大学１）

集積回路を構成するトランジスタの特性は温度によって変わるため、設計時にはその動作温度でのトランジスタ特性の理解が重要。近年、量子コンピューターの制御回路に向けて4ケルビンの低温で動く集積回路の開発が求...

物理的な暗号解読防止東北大とNEC、実装しやすい鍵変換技術（2023/12/14 科学技術・大学１）

従来技術は暗号モジュールに特殊な回路を加える必要があり、計算速度が低下したり消費電力が増えたりする。

富士フイルム、韓国で半導体材料現地向け開発（2023/12/13 素材・建設・環境・エネルギー１）

先端半導体は製造プロセスが複雑化し、回路形成や洗浄などに使用するさまざまな材料の精度要求が厳格化している。

深層断面/日本、半導体で存在感再びセミコン・ジャパン開幕（2023/12/13 深層断面）

一方、「ナノインプリント」と呼ばれる新技術を使った露光装置を10月に発売したキヤノンのブースでは同装置を使って回路を描いた半導体ウエハーを展示。

ニュース拡大鏡/TOPPAN・大日印、フォトマスク微細化加速（2023/12/13 電機・電子部品・情報・通信１）

EUV露光装置は回路線幅7ナノメートル以降の回路の微細なパターンをウエハー上に転写露光する技術として先端半導体製造に不可欠となる。 ... 大日印/EUV評価用、3ナノメー...

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