- トップ
- 検索結果
記事検索結果
290件中、10ページ目 181〜200件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.002秒)
競争力を保つためにも、両拠点の増強が現実的だろう」 ―極端紫外線(EUV)による生産技術に向け、新たな材料も求められています。 「ベルギーの研究機関...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は極端紫外線(EUV)パイロット光源で稼働率80%以上の稼働率を確認した。現在開発中のEUVスキャナー用レ...
7ナノと同じように極端紫外線(EUV)のリソグラフィーを使いつつ、ナノメートルの厚みのシリコンシートにトランジスタを作り込み、それらを積層して高密度の集積回路を製造する手法にめどをつけ...
【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E1...
JSRとベルギーの研究機関であるIMECは2日、同国の合弁会社で極端紫外線(EUV)フォトレジストの量産製造設備が完成したと発表した。光源にEUVを使う露光装置向けのフォトレジストの量...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(...
JSRとベルギーの研究機関IMECは22日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けリソグラフィー材料を生産する合弁会社を設立したと発表した。... 合弁会社「EUVレジスト・マ...
極端紫外線(EUV)リソグラフィ向けフォトレジストの量産に備える。 ... ただ、光源の問題を抱えるEUV露光装置には実現を危ぶむ声も。
サプライヤーとしては北米プラス南米で考える必要があり、17―19年度の課題と捉えている」 ―半導体向けでは極端紫外線(EUV)による生産技術の前進を受け、露光材料の量...
17―19年度の次期中計でも、M&A(合併・買収)費用として現中計並みの4000億―5000億円を想定している」 ―半導体業界では極端紫外線(EUV&...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源で、出力108ワットの安...
JSRも極紫外線(EUV)露光材料の量産に向け動きだした。... 一方、JSRは年内をめどに、IMECと光源にEUVを用いる露光装置向けフォトレジストの合弁会社を設立する。最新のEUV...
EUVは光源の出力不足を解消できず、フッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)の延命で対応してきた。... EUV用のレジスト開発には、東京応化工業も積極的に取り組んでいる。 &...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源で、平均60ワットの24...
JSRは次世代の半導体製造用化学品、極紫外線(EUV)リソグラフィ用フォトレジストの商業生産を2017年に始める。... 現行より2世代先の7ナノメートル世代向けに酸発生剤を使う従来機...
JSRは次世代の半導体製造用化学品、極紫外線(EUV)リソグラフィ用フォトレジストの商業生産を2017年に始める。... 現行より2世代先の7ナノメートル世代向けに酸発生剤を使う従来機...
JSRとベルギーの研究機関IMECは12日、半導体産業向けに極紫外線(EUV)露光材料の製造・品質管理を担う合弁会社を設立すると発表した。... 最先端の半導体デバイスにはさらなる微細...
【神戸】兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線(EUV)リソグラフィー(露光)のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開...
