同装置はCADデータを基に直接描画するためフォトマスクが不要で、半導体や微小電気機械システム(MEMS)の製造開発での期間短縮やコスト削減が期待できる。

CGHの有力な作製手法の一つはフォトマスク作製技術を利用するもので、クロム膜のある石英ガラスに微細なパターンを描画。

階調マスクは石英ガラスの表面に位相を変調する領域に分布させる。... 同マスクは光を吸収する材料を用いない構造のため、レーザー耐性に優れ、使用回数に伴う劣化が小さいため、マスク寿命が長い利点もある。&...

ソノコムはプラズマディスプレーパネル(PDP)用フォトマスクの製造強化のため、新設備を導入する。... 一回の作業で50インチクラスのフォトマスクが6面(従来機は50インチクラ...

09年度の受注高の内訳はウエハー表面に回路パターンを焼き付けるためのフォトマスクを作成するマスク・レチクル製造用装置が同2・8倍の289億円と大幅に増加した。

台湾のフォトマスク製造拠点に250億円を投資する。

東洋精密工業(奈良県橿原市、石井昌社長、0744・23・9160)は、本社工場でフォトマスクの生産能力を増強する。... 新たに1マイクロメートルマスクに参入、ミドルスペックのマスクで...

また、起業家賞は東洋スポーツ建設(千葉市若葉区)の「ヘルシークレーを用いた雨水貯留循環システムの提案」、ゼロユニット(東京都千代田区)の「裸眼・空中投影型立体映像システ...

つくばセミは、フォトマスク洗浄やレジストの除去技術に関する特許を多数持っている。

半導体フォトマスク事業は苦戦している。... 半導体フォトマスクは台湾の新工場が現在、試運転を完了した。

アドバンテストは半導体フォトマスク用線幅測定電子顕微鏡(CDSEM)「E3610/E3620=写真」を自社ブランドで発売した。... 同装置は半導体フォトマスク上の微...

フォトマスクにレーザー光を照射するだけでヘイズの除去が可能。... フォトマスクにレーザー光を照射し、ヘイズをガス状物質に分解して除去する。... ヘイズの除去にはペリクルフレームを取り外してフォトマ...

半導体用フォトマスクなどの部門は受注が改善しつつあるが、単価下落や為替の影響で大幅減益。

フォトマスクやレジストなど周辺部材の開発も積極化。... IMECによるとフォトマスクの改良にはめどがついたというが、量産機出荷までに光源の出力を2―3倍に高めなければならない。

光源やフォトマスクなど周辺装置メーカーと研究開発・生産部門の関係をより密接にすることで、顧客が求める水準以上の成果を上げられるよう力を注いでいる。

富士フイルムは年末にかけてフラットパネルディスプレー(FPD)材料の生産量を4―6月期比で1割増、HOYAも液晶用フォトマスクを同1割以上伸ばす見通しだ。... HOYAは液晶ディスプ...

【横浜】レーザーテックは半導体部品の回路パターン原板となるフォトマスク用の欠陥検査装置「MATRICS X700シリーズ=写真」の受注を始めた。... 半導体設計ルール45ナノメートル...

光源の出力や安定性、フォトマスクなどの周辺技術の開発が完全には整わないと判断した。

HOYAは液晶パネル製造用のフォトマスク事業で中型品が好調。

提携内容は回路パターンを形成したマスターテンプレートを基に、はんこの原理でフォトマスクの代替品となるレプリカテンプレートを複製する装置を開発すること。