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記事検索結果
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具体的には品質検査技術として、各種計測機器開発やフォトマスクの検査技術開発、ナノメートル(ナノは10億分の1)サイズの欠陥対応技術などに取り組む。
フォトマスクは低調だが、「液晶用カラーフィルターは数量が回復する」(山田雅義大日印副社長)と08年度下期の大幅な需要減少からの反転を見込む。
凸版印刷は21日、朝霞工場(埼玉県新座市)内に米IBMとの共同開発した回路線幅28ナノメートル(ナノは10億分の1)半導体向けフォトマスクの製造プロセスを構築したと発表...
半導体フォトマスクや液晶カラーフィルターのエレクトロニクス部門に加え、出版印刷や商業印刷などの主力事業も不振だった。... 半導体フォトマスクは08年夏ころから悪化したが、10月、11月から液晶カラー...
エスアイアイ・ナノテクノロジー(東京都中央区、北野進社長、03・6280・0070)は、回路線幅180ナノメートル(ナノは10億分の1)以上の半導体に対応できるフォトマ...
ウエハーやフォトマスク、液晶のガラス基板の表面に吸着して不良の原因となる化学物質との特定や汚染度の高精度で評価するもの。
また、半導体フォトマスクは両社とも4―9月期で減収になった。... カラーフィルターに次ぐ柱である半導体フォトマスクも低調だ。... フォトマスクは「09年の後半ころ」(凸版の副島専務)...
凸版印刷の08年4―9月期連結決算は、石化製品を中心とした原材料価格の高騰や半導体フォトマスクなどの需要減退の影響を受け営業減益となった。... 主にカラーフィルターとフォトマスクの需要減に対応するも...
露光装置メーカーでは『09年に大きく落ち込んで2010年に急激に戻る』とし、成膜装置メーカーやフォトマスクメーカーでは『2010年まで微減、1ケタのマイナス』と見ている。
富士通マイクロエレクトロニクスとイー・シャトル(川崎市中原区、土川春穂社長)は9日、フォトマスクを用いずシリコンウエハー上に半導体回路を描画する「電子ビーム直描装置」の生産性を最大10...
凸版はフォトリソグラフィー方式の製造方法を採用しており、インクジェット方式を採用する大日印よりも収率で高く、「収益力は当社の方が良い」(垣谷英孝取締役)と見ている。ただ、半導体フォトマ...
04年の米デュポンフォトマスク買収以来、半導体フォトマスクは依然として凸版の方が事業規模は大きく、エレクトロニクスは売上高では一貫して凸版が優位に立っている。
薬液やフォトマスクなどが不要なため、廃液処理設備などの初期投資費用が少なくて済む。... 既存の製造プロセスではフォトマスクの製造や、レジストの塗布・はく離といった薬品を利用する工程があった。
《大日印、被害なし》 大日本印刷では、半導体フォトマスクを製造し、全量を東芝グループに納入するディー・ティー・ファインエレクトロニクス(岩手県北上市、岩手東芝エレクトロニクス内)...
凸版印刷は、米IBMと回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)に対応した半導体フォトマスクの製造プロセスを共同開発する。月内にIBMのバーリントン・フォトマスク工場(米バ...
凸版印刷は12日、光の透過部であるガラス基板と遮光部の2層で構成される「バイナリータイプ」で、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)に対応した半導体フォトマスクを製造する技術を...
