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米デュポンと大日本スクリーン、有機ELの大型化技術で提携（2008/5/9）

新方式はフォトマスクが不要で簡素な構造のため大型化しやすく、生産効率が高まる。

大山光学、DLC膜加工したガラス凹版を今夏量産（2008/4/15）

価格はフォトマスクの2倍程度を見込む。

レーザーテック、大型フォトマスク用の欠陥検査装置を発売（2008/4/15）

【横浜】レーザーテックは大型フォトマスク基板の欠陥検査装置「LB79=写真」を発売した。第10世代液晶ガラス基板の大型フォトマスク向け。... フォトマスクのベースとなるガラス基板の欠陥を検査...

旭化成、次期中計を発表−2015年度営業益2000億円超へ（2008/4/7）

またフォトマスク用保護膜など材料系の製品で生産能力の増強と製品の拡販を進める。... 材料系では11月に第10世代の大型液晶ガラス基板に対応したフォトマスク用保護膜の新生産ラインを稼働させるほか、超極...

【横浜】ニューフレアテクノロジーは従来の3倍以上の速度でフォトマスクの回路パターン欠陥を検出する装置「NPI5000PLUS」を開発した。... 光線によるフォトマスクの欠陥検査では、波長の4分の1が...

【横浜】レーザーテックは今後実用化される第10世代(ガラス基板サイズ2850ミリ×3050ミリメートル)以降の液晶用フォトマスク欠陥検査装置「LI712=写真」を発売...

アドバンテスト、EB露光装置事業を強化（2008/3/24）

一方で、回路をウエハーに焼き付ける際に原版となるフォトマスクが不要になるため、チップ数が10万個以内の多品種少量生産ではコストを削減できる。

従来の加工法であるウェットエッチングのように、フォトマスクを使用する必要がないためコストが下がり、納期も2カ月短縮できるという。

日本電産リード、フォトマスク外観検査装置3種を発売（2008/3/13）

【京都】日本電産リードはフォトマスク外観検査装置「マスクビュー=写真」シリーズ3機種を発売した。線幅3マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の高精細フォトマスクに対応。....

【横浜】レーザーテックは、フォトマスクの位相差と透過率の測定装置「MPM193EX=写真」を発売した。... 設計を工夫し、ペリクル(防塵用保護膜)を付けたフォトマスクの測定も...

A&D・日本電子・ホロン、3月にも電子銃関連事業で提携（2008/2/26）

これらの技術や基板を活用し、ホロンと半導体フォトマスク用検査装置などを開発する。

まず、フォトマスクや光学素子の表面に付いた汚れの洗浄に用いる「真空紫外光照射装置」を製品化した。

タカトリ、エムテーシーを関連会社化し提携（2008/2/18）

エムテーシーはフォトマスク製造装置などを手がけ、07年12月期の売上高は7億8500万円だった。