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記事検索結果
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液状の研磨材スラリーを使わない点も特徴。従来の研磨工程では研磨液として、ダイヤモンドやセラミックスを混ぜた特殊な研磨剤スラリーを使うため多量の廃棄物が発生する。
微粒子を混ぜたスラリー(液体材料)の開発に携わっていた関係で、19年から土岐事業所(岐阜県土岐市)の製造部でスラリーの量産ライン改善を担当することになりました。
UBE三菱セメントは材料押出式建設用3次元(3D)プリンター向けに、長期間スラリー状態で保管可能な2液型セメント系積層モルタルの開発に成功した。長期間スラリー状態を保持できる2液型のセ...
一連の投資によって、半導体研磨材料(CMPスラリー)のグローバル生産能力を現状比1・5倍に高める。 新工場はCMPスラリーに加え、フォトリソグラフィー周辺材料も生産す...
日本企業がほぼ独占している例を挙げると、半導体ウエハーに感光剤を塗って現像するコータ・デベロッパは東京エレクトロン(TEL)が世界の90%、走査型電子顕微鏡(SEM&#...
第1弾として研磨材料(CMPスラリー)をはじめ半導体・電子材料での無機基板と有機分子の相互作用メカニズム解析への活用を始めた。
この手法では特定のアルミ合金を手元炉で溶解後、電磁撹拌で半凝固のスラリーを生成。... 製品搬送、離型剤塗布に加え、スラリーを入れるカップの供給・エアブロー洗浄を自動で行う。
富士フイルムは半導体製造の後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)を2023年末をめどに市場投入する。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が...
半導体向け部材では、高性能な研磨材(スラリー)も主力製品であり、市場も同様に伸びている。EUVマスクブランクスもスラリーも原料から一貫生産できるのが素材メーカーの強みだ。 &#...
昭和電工マテリアルズは山崎事業所勝田サイト(茨城県ひたちなか市)での半導体集積回路向け平坦化研磨材料(CMPスラリー)の設備投資計画が、茨城県の次世代産業集積・カーボン...
リソグラフィー材料、CMPスラリーや洗浄剤といったプロセス材料、実装材料など幅広い材料開発を手がけ、半導体産業のニーズを全方位でカバーできる体制で取り組んでいる」 ―2021年7月に...
富士フイルムは国内で半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産を始める。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が混在する半導体表面を平坦化するための研磨剤で、半導体製造プ...
同社はCMPスラリーで世界シェア2位。... また、評価設備を活用し、次世代デバイス向け低研磨傷スラリーの開発を推進する。 CMPスラリー市場は19年以降、年10%超成長して...
型を無数に彫ったスクリーンにスラリー化した材料を投入した後、乾燥、冷却して固めることを繰り返し、大量の部品を一気に製造する。
同社は新たに約200億円を投じ、ウエハー研磨剤(CMPスラリー)の生産能力を従来比2割引き上げることを決めた。
同法で生産するビンフィスはセルロースをはじめキチン、キトサン、シルクを原料とした品種があり、スラリー、粉末、複合体などの形で提供している。
