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記事検索結果
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1分間と短い溶媒内超音波処理により、基板上に転写された半導体単層を選択的に孤立させる。... さらに、単層と同時に基板上に転写されてしまう99%の不要なバルク結晶群を除去するメカニズムも解明。...
遺伝子解析などから、88n変異体の原因遺伝子であるイネ転写因子OsbZIP1が、窒素の利用効率やリン酸の輸送体などを制御することを明らかにした。
極小LEDチップの高速実装を可能にするレーザー転写用材料や、LEDと配線の接合プロセスを簡素化する接合材料に加え、東レエンジニアリング製レーザー転写装置、チップ実装機を組み合わせて提案する。 ...
網羅的に遺伝子の機能を欠失させて胎盤の発生や分化に関わる遺伝子を同定し、分化で中心的な役割を果たす転写因子の作用機序が解明できた。... ヒト胎盤幹細胞にある数百の遺伝子を対象に解析すると、多数の転写...
EUV露光装置は回路線幅7ナノメートル以降の回路の微細なパターンをウエハー上に転写露光する技術として先端半導体製造に不可欠となる。
【名古屋】シーアイプラント(愛知県豊橋市、西郷幸市社長)は、金属や樹脂製品などにインキを転写できるシヤチハタ(名古屋市西区)製のスタンプを採用した識別用マーキングシステ...
主な展示のうち「Tiger600―1800TS」は、転写紙に印刷した絵柄を熱圧力で生地に染色する昇華転写プリンター。
7ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の回路の微細なパターンをウエハー上に転写露光する技術として、先端半導体製造に不可欠となる。
転写や翻訳を制御する因子を用いたこれまでの手法では、検出可能な分子が限られている。そこで研究チームは高い転写活性を示すほか、追加の因子を使うことなくDNA(デオキシリボ核酸)鋳型からR...
列真(東京都品川区、張東勝社長)は、半導体製造で回路を転写するフォトマスクを作成するガラス基板材料のマスクブランクスの検査装置生産を強化するため、長野県小諸市に新工...
【列真/半導体のガラス基材検査装置】 列真(東京都品川区)は、半導体回路の転写ガラス基材マスクブランクスの検査装置「LODAS―BI8&...
フロントグリルには、製品に転写する箔を改良することにより耐久性を高め、トップコートの塗布を不要にした「トップコートレス ホットスタンプグリル」を採用。
FPA―1200NZ2Cは3次元(3D)の回路パターンを形成した原版(マスク)をウエハー上にある感光材の液体樹脂にハンコのように押しつけながら光を当て、パターンを一度で...
従来は金型を強く押し当てて溝の形状を内径面へ転写していたが、軸受の形を工夫して転写しやすくし、内径0・6ミリメートルでも転写できる加工を確立。
