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富士通、「ポスト京」CPU公開 英アームと共同開発 (2018/8/23 電機・電子部品・情報・通信1)

A64FXは英アームと共同開発したスパコン向けの新型64ビットプロセッサーで、ピーク性能は2・7テラフロップス(テラは1兆、フロップスは浮動小数点演算性能)以上。... 線幅7ナノメー...

仮想通貨採掘用7nm半導体、トリプルワンが量産 処理速度4倍 (2018/8/22 電機・電子部品・情報・通信2)

TRIPLE―1(トリプルワン、福岡市博多区、山口拓也最高経営責任者〈CEO〉、0570・031・119)は、回路線幅が7ナノメートル(ナノは10億分の1)の半導体チッ...

世界最大の半導体メーカー、韓国のサムスン電子は、回路線幅が7ナノ(ナノは10億分の1)メートルのプロセッサー生産を近く開始すると明らかにした。... 年内に7ナノ生産を開始し...

世界最大の半導体メーカー、韓国のサムスン電子は、回路線幅が7ナノメートル(ナノは10億分の1)のプロセッサー生産を近く開始すると明らかにした。... 年内に7ナノ生産を開始し、来年の顧...

同関係者によると、プロセッサーは「A12」チップと呼ばれる見通しで、アイフォーン「8」や「X」に使用されている回路線幅10ナノメートルの半導体に比べてより小型で高速、効率的な7ナノメートルの設計となる...

速度4倍の仮想通貨マイニング用チップ、TRIPLE-1が8月生産開始 (2018/4/11 電機・電子部品・情報・通信1)

TRIPLE―1(東京都中央区、山口拓也最高経営責任者〈CEO〉、03・6313・8355)は、回路線幅が従来に比べて2分の1以下となる7ナノメートル(ナノは10億分の1...

AI演算性能20倍 米ザイリンクス、新プラットフォーム発表 (2018/3/20 電機・電子部品・情報・通信1)

初めて回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)の設計プロセスを採用した。

「18年度には線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)世代が生産に結び付いてくるはず。7ナノメートルはあくまで助走で、その後の5ナノメートルから本格的に使われるとも言われている。

旭硝子、フォトマスク材を増産 (2018/2/6 素材・ヘルスケア・環境)

線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)世代のような、より微細な回路を形成するニーズの拡大を見込んでいる。

碌々産業(東京都港区、海藤満社長、03・3447・3421)は、自社製品のマシニングセンター(MC)でRa(平均粗さ)1・7ナノメートル(ナノは...

フジミインコーポ、半導体デバイス用研磨材 台湾・米で量産 (2017/12/14 モノづくり基盤・成長企業)

【名古屋】フジミインコーポレーテッドは2018年から量産が本格化する回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)の半導体デバイス用に研磨材の量産体制を台湾と米国の工場で整えた。

EUVは次の7ナノメートルプロセスから導入するという。 ... ただ、報道によれば、クアルコムが7ナノのプロセッサーで世界最大のファウンドリーである台湾TSMCに...

日立ハイテクノロジーズ、CD―SEM出荷が5000台突破 (2017/10/19 電機・電子部品・情報・通信1)

CD―SEMは、半導体ウエハーに形成した回路の幅や穴の直径を7ナノメートル(ナノは10億分の1)レベルで測定できる。

「足元のEUV用レジストはArF向けと同じ構造で、線幅7ナノ―5ナノメートル(ナノは10億分の1)を主用途と想定している。そうなると当然、これが3ナノメートル以下になれば新しい材料が必...

同コンソーシアムが線幅7ナノメートルのテストチップまで採用してきたフィン型の電界効果トランジスタ(FinFET=フィンフェット)構造に代わり、IBMが10年以上かけて研究してき...

米GF、日本で売上高倍増狙う 車・モバイル向け受託製造を拡大 (2017/6/1 電機・電子部品・情報・通信1)

先端半導体では2018年4―6月期に回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)の立体構造トランジスタ(FinFET)を投入する。また米ニューヨークの工場では、18年中...

線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)世代向けにフォトレジストをサンプル供給しており、2017年にも量産と販売を目指す。 ... EUVリソグラフィー技術は半導体の...

この投資により、7ナノメートル(ナノは10億分の1)の製造プロセスに対応する次々世代マイクロプロセッサーの生産が可能になるという。 ... ファブ42で生産される7ナ...

大日印、電子光線26万本のフォトマスク製造装置 上福岡工場に導入 (2017/1/5 電機・電子部品・情報・通信2)

主に7ナノメートル(ナノは10億分の1)の回路パターン向けで、複雑な描画に対応する。 ... 現在の半導体フォトマスクは、10ナノ―14ナノメートルの回路パターンが多...

少ない実装面積と高い計算能力、低消費電力を両立すべく、業界で最先端となる回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)、もしくは同10ナノメートルプロセスの採用を検討する。... 現在、...

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