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記事検索結果
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JSRとベルギーの研究機関IMECは22日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けリソグラフィー材料を生産する合弁会社を設立したと発表した。... IMECのEUV露光装置など...
極端紫外線(EUV)リソグラフィ向けフォトレジストの量産に備える。 ... ただ、光源の問題を抱えるEUV露光装置には実現を危ぶむ声も。
サプライヤーとしては北米プラス南米で考える必要があり、17―19年度の課題と捉えている」 ―半導体向けでは極端紫外線(EUV)による生産技術の前進を受け、露光材料の量...
JSRも極紫外線(EUV)露光材料の量産に向け動きだした。... 一方、JSRは年内をめどに、IMECと光源にEUVを用いる露光装置向けフォトレジストの合弁会社を設立する。最新のEUV...
JSRは年内をめどに、ベルギーの研究機関IMECと光源に極紫外線(EUV)を用いる露光装置向け材料の製造・品質管理を担う合弁会社を設立する。... JSRは最新のEUV露光装置が持つ8...
露光装置を使った品質検査はIMECに委託する。 レジストはシリコンウエハー上に塗布し、レーザー光で回路パターンを露光する。JSRは現段階で最新の80ワット光源のEUV露光機で毎時10...
露光装置を使った品質検査はIMECに委託する。 レジストはシリコンウエハー上に塗布し、レーザー光で回路パターンを露光する。JSRは現段階で最新の80ワット光源のEUV露光機で毎時10...
JSRとベルギーの研究機関IMECは12日、半導体産業向けに極紫外線(EUV)露光材料の製造・品質管理を担う合弁会社を設立すると発表した。... JSRの露光材料のほか、他社製品も生産...
【神戸】兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線(EUV)リソグラフィー(露光)のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開...
今は半導体メーカーが集約されたこともあり、需要が逼迫(ひっぱく)してから工場を新設する流れになりつつあり、従来より半導体市場は安定してくるのではないか」 ―半導体微細...
しかし半導体製造で主流の露光装置により回路パターンを描写する技術は、理論的限界値を迎えつつある。... 同社が現在挑むのが次世代半導体の露光技術であるEUVリソグラフィの開発だ。... こうした基礎研...
足元ではEUV(極紫外線)を光源に採用した次世代露光装置の研究開発を進めている。EUV露光装置を巡っては実現可能性が低いと判断し、ニコン、キヤノンともに撤退している。ASMLがEUV露...
―EUV(極紫外線)露光装置の量産技術の実現性をどう見ていますか。 ... 当社もEUV露光装置の基本設計は行っているが、課題が多く量産装置の開発にゴーサインを出せる...
◆ ―EUV(極紫外線)露光装置の開発状況は。 ... 【記者の目/課題解決力も日本勢に脅威】 2月下旬、米カリフォルニ...
長く次世代技術の本命とされてきたEUV(極紫外線)露光。... EUV露光装置を量産工場で使うには250ワット出力の光源を安定的に稼働させることが必要とされる。... 日本勢にとってE...
次世代の極端紫外線(EUV)リソグラフィー露光装置の実用化が近づく。... 従来のEUV露光プロセスは1回のEUV露光でレジスト中に酸が発生し、反応が進む。... 2回目の光全面露光で...
【横浜】レーザーテックは極紫外線(EUV)マスク裏面の定期管理や受け入れ検査などができる装置「BASICシリーズ=写真」を発売した。... 対応する基板サイズは6インチのEUV...
微細な配線の形成に使うフッ化アルゴン(ArF)液浸レジスト用ステッパー(露光装置)は、1台の価格が約50億円する。18年までに直径450ミリメートルの半導体シリコンウエ...
ニコンは直径450ミリメートルウエハーに対応した次世代の露光装置を2017年にも投入する。同じく次世代機として期待されている極紫外線(EUV)露光装置は18年からの本格量産が予想されて...
