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記事検索結果
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物理気相成長(PVD)材種「AH3135」と化学気相成長(CVD)材種「T3225/T1215」で、AH3135は耐欠損性や耐摩耗性に優れ、T3225とT12...
新技術は従来のプラズマ製造法ではなく、原料を触媒で分解するCVD(化学気相成長)製造法を採用する方針。... 触媒によるCVD製造法は一般に確立された技術だが、キリンはペットボトルに応...
タンガロイ(福島県いわき市、0246・36・8501)は旋削加工用の化学気相成長(CVD)コーティング材種「T9215=写真」を発売した。
日本板硝子は8日、化学気相成長(CVD)技術を使い、ガラス製造工程中(オンライン)に、厚さ0・7ミリメートルの薄板ガラス上に透明な導電性金属酸化物膜をつくることに成功し...
化学気相成長(CVD)コーティング膜の改良などで耐摩耗性を向上し、チップの変形を低減。... 多層構造のCVDコーティング膜のうち、耐熱性に優れるアルミナ(酸化アルミニウム...
3月末で化学気相成長(CVD)処理を終了し、物理気相成長(PVD)処理に集中する。... CVDコーティング事業は、熱による変形、歪(ひず)みが生じやす...
実験炉は原料となる液体を加熱してガスにし、そのガスから炭素だけを取り出して固体にする化学気相成長(CVD)法で、CNTを合成する。
半導体製造装置用のマテリアル消耗材である石英・セラミックス・CVD-SiCの各製品、その他同社コア製品である真空シールや新規参入となる8インチシリコンウェーハ等の展示が見所だ。 ...
17年9月には、政府の16年度補正予算(教育研究基盤装置・設備)約7000万円を活用し、パワー半導体の試作装置としてプラズマCVD(化学気相成長)装置3台と原料ガス供給...
半導体など関連装置事業はセラミックス製品、石英製品、CVD(化学気相成長)―SiC製品などのマテリアル製品を取り扱っており、前工程・後工程のウエハープロセスに使用される。
「化学気相成長(CVD)装置やエッチング装置が厳しい環境下で使われるようになり、シール交換までのメンテナンスサイクルをいかに延ばせるかがカギを握る。
MVXは切削速度の高い外刃にCVD(化学気相成長)コーテッド超硬材種、切削速度の低い内刃にPVD(物理気相成長)コーテッド超硬材種を配置し、摩耗バランスを最適化している...
一般的にダイヤ被膜の合成は、化学気相成長(CVD)などを用いて真空引き、昇温、フィラメント炭化、成長、冷却とプロセスが多く丸一日かかる。
【経済産業大臣賞】 「PFC等の新型大気圧プラズマ除害装置」カンケンテクノ 電子デバイス製造の化学気相成長装置(CVD装置)は、...
▽伝達効率98%以上を有する磁気ギアの技術開発(プロスパイン)▽ミニマルファブによる異種デバイス集積モジュールのプロセス開発&試作(ピーエムティー)▽近...
唐津市の新工場は、化学気相成長(CVD)による炭化ケイ素(SiC)部材を生産する。... CVD―SiC部材の海外生産は初めて。
両材種とも強靱(きょうじん)性超硬母材に独自の化学気相成長(CVD)コーティングを適用し、耐チッピング(刃先の細かい破損)性や耐溶着性を高めた。 ...
また月島機械との共同開発により、プラズマ化学気相成長(CVD)法で実車サイズの大型・曲面形状の樹脂窓にも均一にコーティングできる設備も完成した。 ...