両メモリーともに製造効率化で原価を下げないといけない。... カメラや事務機、光学機器を事業化。... フッ化アルゴン(ArF)ドライ露光装置を今期5台出荷予定。

メーカーは回路微細化と生産効率化で単価を下げる必要がある。DRAMは業界再編が進んで供給過剰が解消されれば、徐々に価格も回復すると思う」 ―先端半導体製造用のフッ化アルゴン(ArF&#...

ニコンは12日、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した次世代半導体製造用のフッ化アルゴン(ArF)液浸スキャナー「NSR―S620」を09年1...

だが、回路形成を担う製造前工程の中でも、露光装置が微細化のカギを握るため、先端技術を搭載した装置の引き合いは強い。... 特に屈折率の高い純水を用いて解像度を高めるArF(フッ化アルゴン...

先端半導体製造に対応するArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置は1台40億―50億円するが、EUV露光装置の価格はそれ以上になると予測されている。

【フェルトホーフェン(オランダ)=安久井建市】半導体露光装置メーカーが先端・次世代半導体製造に用いるArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置(用語参照...

半導体回路をウエハーに焼き付けるフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置(用語参照)の販売が好調だ。... 半導体露光装置も光源にi線やフッ化クリプトン(KrF&#...

エルピーダメモリは次世代DRAM(記憶保持動作が必要な随時書き込み読み出しメモリー)製造に用いるフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を、オランダのASMLとニコンに発注...

ニコンは6日、熊谷製作所(埼玉県熊谷市)と栃木ニコンプレシジョン(栃木県大田原市)に新棟を建設し、フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置の生産能力を201...

オランダのASMLはフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にした半導体用の液浸露光装置「TWINSCAN XT1950i」を開発した。

回路線幅を一世代微細化すると取れるチップ数が2倍近くに増えるため、四日市市と岩手県北上市に建設する第5・第6製造棟には、研究開発を進めている同30ナノメートルの次世代プロセスを適用。... 量産では半...

ダブルパターニングでは45ナノメートルプロセス品の量産に用いるフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を使用するため、従来技術を抜本的に変えずに対応できる。 ... 半導体各社が想...

20ナノメートル台でも両材料を使う」 ―20ナノメートルや10ナノメートルへの回路微細化については。 ... 32ナノメートルプロセスは今まで通り投影レンズとウエハーの間に純水を満たし...

2013年ごろ実用化する20ナノメートル世代は量産ラインでの露光工程が課題に挙がる。... 半導体業界は2年ごとに回路を微細化しトランジスタの集積度を高めてきたが、2010年に実用化する32ナノメート...

フッ化アルゴン(ArF)液浸リソグラフィーを採用する。

半導体チップ上に形成する回路の線幅は、45ナノメートル(ナノは10億分の1)が現状で最も微細化された先端プロセスとなっている。... 45ナノメートルプロセスで用いたフッ化アルゴン&#...

製造でポイントとなる露光工程は、同30ナノメートルプロセス品では解像度を向上するため、ArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置を用いる。... 東芝はNANDフラッシュの回路線幅を70ナノ...

同じチップ寸法で集積度が上がればその分、高速化、低消費電力化が図れる。... このうち微細化を進める先端プロセス開発では、前工程の中で回路パターンを焼き付ける「露光」がカギを握る。... 露光光源の短...

だが、ニコンで精機カンパニープレジデントを務める牛田一雄専務執行役員は「回路を微細化した先端プロセスでは戦略的な投資が続く」とし、回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の先...

「光源波長365ナノメートル(ナノは10億分の1)のi線を用いた露光装置は、同193ナノメートルのフッ化アルゴン(ArF)露光装置を市場投入していなかったこともあり、0...