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記事検索結果
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化学気相成長(CVD)でサファイア基板上にグラフェンが10層程度積み重なった多層グラフェンを合成し、酸化膜付きシリコン基板に転写して一般的な半導体プロセスで配線化した。 ...
エネルギー市場の成長とともに、化学気相成長(CVD)装置やドライエッチング装置といった半導体製造装置の需要も伸びると判断した。
辻理社長に今後の成長戦略を聞いた。 ... こうした製品向けの半導体製造などに、当社のドライエッチング装置や化学気相成長(CVD)装置を提案する」 ...
同装置は化学気相成長(CVD)を採用したロールコータ(ロール・ツー・ロール成膜装置)で、有機EL素子部を保護するハイバリアー膜をフィルム基板上に成膜する。ロール上で連続...
【京都】島津製作所は結晶シリコン型太陽電池セルの長寿命化、高効率化につながるプラズマ化学気相成長(CVD)反射防止膜成膜装置「MCXS」を4月1日に発売する。
03年には豊田中央研究所(愛知県長久手市)と共同開発したダイヤモンド・ライクカーボン―シリコン(DLC―Si)膜のプラズマ化学気相成長(CVD)加工装置...
【京都】京セラは従来品に比べ耐摩耗性、耐欠損性を1・5倍以上に高めた鋼旋削用切削工具の化学気相成長(CVD)コーティング材種「CA515/同525」を完成した。... CVD...
慶応義塾大学理工学部電子工学科の粟野祐二教授は、ナノメートル(ナノは10億分の1)級の半導体の量産化に向け、新型熱化学気相成長(CVD)法を用いてカーボンナノチューブ&...
マイクロ波プラズマ化学気相成長(CVD)を使い、大型で高純度のダイヤモンド単結晶を製造している。... 近くCVD装置も4台から8台まで増やす。
今春にも、ブラシ状のCNTを安定的に連続生成できるロール・ツー・ロール方式の化学気相成長(CVD)装置を完成させる。... 試験生産用に開発したステップ搬送式のCVD装置を築港工場&#...
イーディーピーはマイクロ波プラズマ化学気相成長(CVD)で、高純度の結晶を効率的な成長により低コストで製造する。
幅150ミリ―200ミリメートルの樹脂や金属の表面に、高速化学気相成長(CVD)法により厚さ5マイクロメートル(マイクロは100万分の1)のグラフェンを成膜。
化学気相成長(CVD)コーティングの超硬材種「MC7015」「MC7025」と、物理気相成長(PVD)コーティングの超硬材種「MP7035」の3種類(写真...
従来の物理気相成長(PVD)法や化学気相成長(CVD)法、バナジウム炭化物の被膜を形成するTD法に比べて処理費は半分以下に抑えられる。
これまでの研究で化学気相成長(CVD)ダイヤモンド膜を用いたドライプレス加工の実用化を進め、アルミニウムや銅だけでなく、厚さ0・5ミリメートルのステンレス板でも10万回のせん断加工を達...
