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記事検索結果
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同社の中核技術は京都大学の藤田静雄教授らが開発した「ミストCVD(化学気相成長)」にある。液体原料をミスト状にして基材に成膜する仕組みで、従来のCVDでは難しかった素材も扱えるのが特徴...
グラフェン薄膜を作製するには、主に化学気相成長(CVD)を活用するが、1層を作製するのに数時間かかる。... グラフェン薄膜の作製には、グラファイトからテープで機械的に引きはがす手法や...
物理気相成長(PVD)や化学気相成長(CVD)、エッチングなどで使う半導体製造装置を主対象に、メーカーから装置の部品を預かり精密に洗浄し再生する。
外刃に化学気相成長(CVD)、内刃に物理気相成長(PVD)のコーティングチップを配置し、高速・高能率の加工を実現した。 ... そのため、外刃に耐熱性...
三菱マテリアル 重切削旋削加工用インサートシリーズに化学蒸着(CVD)コーテッド超硬材種「MC6035」を追加、発売した。
半導体の基板上にシリコンなどの薄膜を作る化学気相成長(CVD)工程やエッチング工程などで利用される。
金属ナノ粒子の製造は、プラズマ方式による物理的蒸発法や化学気相成長(CVD)方式を用いた塩化物の水素還元法が普及している。... CVD方式も塩素系ガスが発生するため、洗浄・乾燥させて...
主流の化学気相成長(CVD)やプラズマによる手法より工程が簡単なほか、消費電力も抑えられる。
プラズマ化学気相成長(CVD)法により、PC樹脂上のハードコート層の上に同層の劣化を抑えるガスバリア性の高いシリコーン層を形成する仕組み。 ... 従来、CVDが可能...
基材・基板などへの成膜は化学気相蒸着(CVD)が一般的だが、室温形成の実現によって、樹脂を使った自動車部品やフィルム半導体など電子部品、ペットボトルのコーティングなど用途拡大が期待でき...
三菱マテリアルは重切削旋削加工用インサートシリーズ(写真)に、CVD(化学蒸着)コーテッド超硬材種「MC6035」を追加、発売した。
一般に垂直配向CNT膜は化学気相蒸着(CVD)法で形成されるが、事前に基板上に金属酸化物を薄い触媒担持膜として形成する必要がある。... 適切なブラスト処理を行った基材表面に、当社が独...
【重点研究開発助成Aグループ研究(塑性加工)】▽「生体吸収性マグネシウム素形管材の革新的レーザダイレスフォーミング法の開発」東京大学生産技術研究所古島剛准教授ら 【重点研究開発...
ポリエチレンテレフタレート(PET)などの樹脂フィルム上に触媒化学気相成長法(CAT―CVD)で、酸素やフッ素を含むシリコン系化合物の薄膜を3層重ねて、厚さ0・5マイク...
M&A(合併・買収)を含め、事業拡大を急ぐ必要がある》 「売上高の7割はエッチング装置が占め、創業事業の化学気相成長(CVD)装置は縮小傾向に...
同社がCVD―SiC部材を海外生産するのは初めて。... CVD―SiC部材は現在、子会社のアドマップ(岡山県玉野市)で製造している。... 大型CVD炉を最大3基設置する予定。
