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記事検索結果
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顧客のコスト削減につながる薄膜・幅広フィルムの提供に向け、原料のポバール樹脂の改質から生産技術の開発まで、全てのレベル向上に取り組む」 ―CMP(化学的機械研磨)パッ...
オイルミストは金属の切削や研磨で加工対象物(ワーク)に吹き付けた油が、直径数マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の霧状の油となって周囲に飛散したもの。
通常は塗装後に刃先を研磨するため、2色以上にするとボディーの厚みにばらつきが生じて研磨精度に悪影響が出てしまっていた。そこで、先に1色塗装してから刃先を研磨し、2色目以降を再度塗装するように工程を見直...
もう一つの主力の化学機械研磨(CMP)装置では、台湾にラボ(開発施設)を25年までに建設し、顧客の要望を製品に反映しやすくして競争力を高める。
従来の表面科学理論では説明できない現象だが、化学機械研磨(CMP)を省き半導体製造プロセスを短縮できる可能性がある。
半導体製造機器向けの精密洗浄や化学研磨などが得意で、それぞれ部材を薬品に数度浸して洗浄や研磨をし、汚れを落とす。... 8月にはチャンバー内で試料を移動させる治具や試料容器の精密洗浄と化学研磨を実施し...
ケメット・ジャパンは半導体ウエハーの研磨剤の販売と技術サポートを手がけ、売上高は9億7100万円(2023年3月期)。システム精工はハードディスクドライブなどの研磨装置の製造販売を手が...
5チームで先端市場の取り組み強化 半導体ウエハーの研磨・研削加工を手がける六甲電子(兵庫県西宮市、小林秀守社長)は、2024年3月に予定する新工場の完全操業に向け、モ...
半導体関連の精密・電子事業は半導体需要拡大を追い風に好調で、ドライ真空ポンプは化学機械研磨(CMP)装置と並ぶ主力製品。
海洋研究開発機構の清水健二主任研究員は、簡単に平滑な鏡面研磨ができる手法と研磨板を開発した。研磨板を回転式研磨装置に取り付け、その上から研磨フィルムを張って使う。... 開発した研...
独自開発の研磨部材を取り付けたディスクを用い、従来方式では完全な除去が難しかった硬くて大きなドロスなどに対応でき、製品品質の安定化や省人化に寄与する。... 新製品の「DB1000H=写真」は...
ともに東洋ステンレス研磨工業(福岡県太宰府市)が研磨加工、古森弘一建築設計事務所(北九州市小倉北区)が設計を担当した。
約3億5000万円を投じて、大型円筒研削盤と研磨機各1台を7月中に導入し、9月をめどに本格稼働する。... 新たに導入するのは、最長8メートルのロール製造が可能なシギヤ精機製作所(広島県福山市...
研磨液に使う水は再利用できる。 液状の研磨材スラリーを使わない点も特徴。従来の研磨工程では研磨液として、ダイヤモンドやセラミックスを混ぜた特殊な研磨剤スラリーを使うため多量の廃棄物が...
日立グローバルライフソリューションズ(日立GLS、東京都港区、大隅英貴社長)は、ガラス扉の冷蔵庫をリサイクル処理する過程で、ガラス板を研磨して付着物を除去する「ガラス研磨システム」を開...
併せて鏡面研磨機や測定器も導入。... 表面の加工が粗いと空気が残り良好な真空状態にできないため、仕上げのための鏡面研磨機と、品質保証のための3次元(3D)形状測定器を導入した。
