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記事検索結果
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太陽誘電複合デバイス事業本部EOMIN商品部の星健一部長がこだわったのは、フォトリソグラフィーとエッチングで微細な配線を形成する技術の展開だ。
【材料分野】武知敏富士通セミコンダクター知的財産本部標準推進部プロジェクト課長、野崎耕司富士通研究所基盤技術研究所主管研究員「ArFエキシマレーザリソグラフィ用新規レジスト材料の開発と実用化」 ...
絶縁材に含む樹脂段階から開発し、硬化温度を従来のフォトリソグラフィー方式向けと同じ150度Cに引き下げた。 ... このため、フォトリソグラフィー方式に比べ材料の使用量や加工時間の大幅な削減・...
JSRは18日、米国の半導体製造技術研究組合であるSEMATECH(セマテック)が行っている極端紫外線(EUV)リソグラフィー技術の開発プログラムに参加したと発表した。
同大学の松村隆教授が「ガラスの微細加工」、平栗健二教授が「ダイヤモンド状炭素(DLC)膜のコーティング技術」、堀内敏行教授が「光リソグラフィー」をテーマにそれぞれ講演する。
これらの薄膜はスピンコート法などの簡便な塗布法で得られ、パターニングにはインクジェット印刷やフォトリソグラフィー法などを利用できる。
JSRは25日、2009年春に四日市工場(三重県四日市市)内に完成した先端リソグラフィー材料の新工場を稼働し、フッ化アルゴンレジストの出荷を始めたと発表した。
