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記事検索結果
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これを直径100マイクロメートル(マイクロは100万分の1)程度の領域で気体に集めることにより、光の波長を短くすることが可能になり、紫外線や軟X線領域におけるコヒーレント光を得ることが...
3月には北海道千歳市に新工場の建設を決めたほか、ベルギーの世界的な次世代技術の研究機関imec(アイメック)と次世代半導体の微細加工に必要な極端紫外線(EUV)露光技術...
【表彰】▽板垣昌幸東京理科大学理工学部先端化学科教授=コンクリートの鉄筋腐食環境モニタリング法の開発と適用▽土井康太郎物質・材料研究機構構造材料研究拠点独立研究者=高酸素反応促進技術に...
豊田合成は深紫外線(UV―C)を発する発光ダイオード(LED)により、スマートフォンなどの表面を高速除菌する装置「UVD―TRON」のレンタルサービ...
テティスの強みである紫外線(UV)分光技術と新興国の販売ネットワークが加わることで、技術力強化や製品・サービスの幅を広げ、インドや東南アジアといった成長市場への展開を加速する。 ...
併せて紫外線(UV)発光ダイオード(LED)で浴槽の湯を除菌する技術を一部に搭載した。
かつては「子どもに化粧は早い」という否定的な意見が多かったが、最近では紫外線(UV)や皮膚トラブルの予防対策としての習慣を子ども時代から身に付けることに前向きな姿勢が一般に増えてきてい...
次世代半導体微細加工向け 最先端半導体の開発製造会社のRapidus(ラピダス、東京都千代田区、小池淳義社長)は4日、ベルギーの世界的な次世代技術の研究機関であるim...
CLAで新たな検査領域を開拓したのが「CLA―LIS」で、紫外線(UV)など光による高分子材料の劣化を数日から数時間という短期間で特定できる。
1ケタナノメートル台の半導体を製造するのに欠かせない極端紫外線(EUV)のマスク用防護カバー製造装置やEUV用に設計された塗布・現像装置などが対象になる。
深紫外線(UV―C)を用いて水を殺菌する場合、装置の導入には数百万円以上かかり、定期的に光源を交換する必要がある。
ウシオ電機は抗ウイルス・除菌用紫外線照射装置「ケア222iシリーズ」の新製品「フラッドダウンライトタイプ i―FDT=写真」を4月下旬に国内で発売する。
ポーラ・オルビスグループのポーラ化成工業(横浜市戸塚区、釘丸和也社長)は、日焼け止め製品の心地よさを損なわずに紫外線(UV)カット効果を向上させる技術を開発した。
シャープは高濃度イオンで消臭を行う「プラズマクラスターNEXT」と除菌用の深紫外線(UV―C)を搭載した「プラズマクラスターシューズクローゼット」を4月20日に発売...
MGMTは紫外線発光ダイオード(LED)を除菌に活用する直管形空気除菌機「ユーブ」を発売した。小型ファンで取り込んだ空気に紫外線を当てることで除菌する。
同社は直径10ナノ―50ナノメートル(ナノは10億分の1)の紫外線散乱剤で微細な凹凸構造を形成し微粒子の付着を抑制する技術を持つ。
