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結晶化ITO(酸化インジウムスズ)膜にも、非結晶化ITO膜にも対応。... 同社はITOを結晶化せずに抵抗膜をつくる独自技術について開発を進め、大幅に抵抗値の低い成膜技術を確立した。....

タッチパネルの透明導電膜として一般的に使われる酸化インジウムスズ(ITO)のシート抵抗値は50―100オームだが、開発した素材は約0・2オームを実現。... ガラスや樹脂などの基板との...

DOWAエレクトロニクスは1日、インジウム4N(ITOグレード)の4月の建値を発表した。

スパッタロールコータは、プラスチックフィルムにスパッタリング法で酸化インジウムスズ(ITO)などの透明導電膜や光学膜などを形成する装置。

DOWAエレクトロニクスは2日、インジウム4N(ITOグレード)の3月の建値を発表した。

DOWAエレクトロニクスは2日、インジウム4N(ITOグレード)の2月の建値を発表した。

DOWAエレクトロニクスは5日、インジウム4N(ITOグレード)の1月の建値を発表した。

現在主流の酸化インジウムスズ(ITO)に置き換える材料として、モバイル端末向けを中心にサンプル供給を始めた。 ... 材料や光学設計の技術を駆使して、配線にアルミ合金...

同研究室ではすでに、ナノサイズの酸化インジウムスズ(ITO)をガラスなど透明材料と組み合わせることによって、近赤外線のみを吸収する熱吸収材料の開発に成功した。

DOWAエレクトロニクスは1日、インジウム4N(ITOグレード)の12月の建値を発表した。

導電性の高い酸化インジウムスズ(ITO)などが電極形成時に必要とする蒸着やスパッタリングの装置を使わずに、スクリーン印刷で基材に塗布できる。

DOWAエレクトロニクスは4日、インジウム4N(ITOグレード)の11月の建値を発表した。

製品化に関しては、酸化インジウムスズ(ITO)などの透明な配線フィルムで進める。

DOWAエレクトロニクスは1日、インジウム4N(ITOグレード)の10月の建値を発表した。

タッチパネルに欠かせないITOフィルムでは今や業界2位だ。 ... 残りはITOフィルムなど工業用。ドライコーティングの一つであるスパッタリング技術を応用したITOフィルムは93年に...

DOWAエレクトロニクスは1日、インジウム4N(ITOグレード)の9月の建値を発表した。

▽吉野機械製作所(船橋市)=鋼板折り曲げ加工機「サーボドライブ式プレスブレーキ」▽ロック技研工業(八街市)=低抵抗ITO成膜技術を応用した巻き取り式真空...

年内には酸化インジウムスズ(ITO)に変わる線幅5マイクロメートルのメタルメッシュ印刷を確立。

同センサーの電極材ではインジウムスズ酸化物(ITO)が主流。

主に酸化インジウムスズ(ITO)・透明導電膜ベースフィルムなどといった用途での使用を想定し、すでに提案を始めた。... 旭硝子によれば、従来はスマートフォンなどの電子機器向けの透明導電...

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