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記事検索結果
253件中、9ページ目 161〜180件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.014秒)
「第10世代向けフォトマスクなど大型化への対応は業界でもっとも進んでいる。... 大型フォトマスクでは業界トップシェアだ。... 「社内にはフォトマスクのエキスパートが多くいる。
単波長の半導体レーザーを使う直接描画装置よりも幅広いレジストに対応できるため、フォトマスクによる露光方式でのレジストや、基板の絶縁保護膜となるソルダーレジストなどのパターン形成にも使用できる。... ...
両社とも半導体関連のフォトマスクやカラーフィルターなどエレクトロニクス部門の売り上げが低迷し、減収だった。... 14年3月期業績見通しは、フォトマスクや太陽電池、リチウムイオン電池関連の販売増を見込...
【横浜】レーザーテックは極紫外線(EUV)マスク裏面の定期管理や受け入れ検査などができる装置「BASICシリーズ=写真」を発売した。... 対応する基板サイズは6インチのEUV...
レーザーテック 20ナノメートル(ナノは10億分の1)世代以降の半導体デバイス用フォトマスクに対応するマスク欠陥検査装置「MATRICS(マトリクス)X810シ...
【横浜】レーザーテックは従来機より検査速度を大幅に向上させた高速フォトマスク欠陥検査装置「MATRICS X700 HiTシリーズ=写真」を発売した。... フォトマスク製造工...
また、半導体やディスプレーの市況が軟調に推移したため、フォトマスクやカラーフィルター、反射防止フィルムなども当初計画を下回った。 ... 事業別では半導体フォトマスクやプリント配線板...
東芝は技術研究組合BEANS研究所(東京都千代田区)、東京大学と共同で、次世代以降の半導体向けフォトマスク(半導体回路の原版)の描画・修正技術として、回路線幅50ナノメ...
フォトマスク(半導体回路の原版)を使わず描画するレーザーダイレクトイメージング(LDI)装置と同程度の価格に設定し、5年後に500台の出荷を目指す。 ...
日本企業はインクジェット印刷技術、ITI製造・技術、ラインや面蒸着設備・技術、パッケージング設備技術、フレキシブルデバイス製造プロセスロール・ツー・ロール技術、蒸着用フォトマスク技術などを有する。
【市村産業賞功績賞】▽環境保護に寄与する鉛フリーはんだの開発と実用化(パナソニック、千住金属工業)▽スポットスキャニング粒子線治療システムの開発、実用化(日立製作所)&...
アジャイル・パッチ・ソリューションズはパワー半導体向けに特化したフォトマスク検査装置を開発、販売するベンチャー企業。
