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ニュース拡大鏡/住化、5G関連素材の事業化を加速 (2020/10/26 素材・医療・ヘルスケア)

EUVレジスト生産開始/基礎化学研究も 住友化学は、第5世代通信(5G)関連素材の事業化を加速する。... 22年度上半期にはEUVレジストの開発・評価体制...

「微細化で電子の通り道を狭くする材料の一つが極端紫外線(EUV)。

信越化、日台でフォトレジスト増産 先端半導体向け (2020/10/16 素材・医療・ヘルスケア)

直江津工場に加え、台湾でも極端紫外線(EUV)レジストの生産を始める。EUVレジストは人工知能(AI)や第5世代通信(5G)の普及などに伴い、需要が増え...

「フォトレジスト用ポリマーの生産能力は順次増強を実施しており、次は極端紫外線(EUV)を含む最先端技術向けの同ポリマーを増強する方向で検討している。

AGC、フォトマスクブランクス生産能力倍増 EUV露光用 (2020/7/28 素材・医療・ヘルスケア)

AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。... EU...

ファイルいい話/レーザーテック 半導体マスク欠陥検査装置 (2020/7/16 電機・電子部品・情報・通信2)

2019年には最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥検査装置(写真)を開発。

住友化学の岩田圭一社長は「極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストでもトップを狙いたい」と話す。... EUVは最先端の露光技術で、第5世代通信(5G)や人工知能&#...

大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。...

半導体製造装置分野では、紫外線で効率的に微細な加工をする極端紫外線(EUV)露光装置が話題を集める。

住友化学、EUVレジスト増強 大阪工場に新棟 (2020/4/23 素材・ヘルスケア)

住友化学は22日、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストの開発・評価体制を強化すると発表した。... 人工知能(AI)や第5世代通信...

住友化学、21年度に半導体材売上高1.5倍 EUVレジスト量産 (2020/2/27 素材・医療・ヘルスケア)

最先端の露光技術である極端紫外線(EUV)露光に対応したレジストも近く量産を始める。

第62回十大新製品賞/日本力賞 レーザーテック (2020/2/20 電機・電子部品・情報・通信1)

レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。 ....

【レーザーテック・楠瀬治彦副社長】 極端紫外線(EUV)利用の技術開発に取り組んで20年近い。

新工場で生産するのは光源に「極端紫外線(EUV)」を用いる最先端のEUVレジスト。

半導体、微細化に挑む 5G・EV進展で (2020/1/13 電機・電子部品・情報・通信)

【設備補完強み】 極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導...

2019年 第62回十大新製品賞 (2020/1/6 十大新製品賞)

【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マ...

極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 ... EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導体デバイスの量産で活用されて...

大阪有機化学工業、半導体レジスト材拡充 金沢工場に新棟 (2019/10/30 素材・医療・ヘルスケア)

フッ化アルゴン(ArF)用や極端紫外線(EUV)用のレジスト材料を、半導体レジストメーカー向けに供給する。... EUV用材料の生産に対応するため、金属不純物の混入を極...

JSRの4―9月期、減収営業減益 エラストマー不振 (2019/10/29 素材・医療・ヘルスケア)

EUV(極端紫外線)レジストの韓国向け輸出管理強化の影響は「半導体関連の売り上げに占める比率は小さく、影響は小さい」(宮崎秀樹取締役常務執行役員)とした。 &#...

信越化学の4―9月期、当期最高益 (2019/10/28 素材・医療・ヘルスケア)

EUV(極端紫外線)レジストの韓国向け輸出管理強化の影響は少ないという。

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