東京大学の水野哲孝教授らの研究グループは、「ポリオキソメタレート(POM)」という金属酸化物イオンの集合体を使って、ナノサイズ(ナノは10億分の1)の規則正しい隙間構造...

電子ビームを用いてシリコンウエハーなどの基材に直径8ナノメートル(ナノは10億分の1)の穴を、最小ピッチ間隔が17ナノメートルの精度で描画できる。同社従来機の描画精度は35ナノメートル...

ガリウムヒ素基板の上にインジウムガリウムの下地層を設け、その上に0・8ナノメートル(ナノは10億分の1)と3分子程度の厚みのガリウムヒ素の極薄層を作った。

山口東京理科大学の戸嶋直樹教授らの研究グループは、高い触媒活性を示す金属ナノ粒子(ナノは10億分の1)を開発した。... 開発した金属ナノ粒子を、現在食品添加剤として利用されているグル...

界面活性剤で作った直径2ナノ―10ナノメートル(ナノは10億分の1)の均一な細孔を持つシリカ材、メソポーラスシリカの穴をさらに小さくして吸着力を高めた。... 作製した「スーパーミクロ...

上澄み液を取り出して、8ナノ―10ナノメートル(ナノは10億分の1)のプルシアンブルーの粒子を入れると抽出されたほぼすべてのセシウムが吸着された。

スーパーハイブリッド対物レンズを搭載し、加速電圧15キロボルトで0・8ナノメートル、同1キロボルトで1・2ナノメートルと高分解能を実現した。

今後10年程度で高性能LSIの線幅は20ナノメートル(ナノは10億分の1)、16ナノメートル、11ナノメートル、8ナノメートルと世代交代が進むとみられる。

電子線径2ナノメートル、最小線幅8ナノメートルの描画技術を持つクレステックは、研究開発向け描画装置の製造・販売などを手掛けている。

どこまで微小な領域を分析できるかを示すオージェ分析時分解能は現行装置が35ナノメートル(ナノは10億分の1)なのに対し、新装置は8ナノメートルを予定。

SUS316や316Lなどステンレス鋼の表面を機械的研磨(バフ)と電解研磨でナノ(ナノは10億分の1)メートルレベルに平滑性を持たせた後、GEP処理を行う。GEPは酸化...

独自開発の高機能光触媒無機繊維は、繊維径7ナノ―8ナノメートル(ナノは10億分の1)の繊維表面に光触媒である酸化チタン(チタニア)が均一に分散しており、触媒活性が非常に...

(藤木信穂) 東芝は、立体構造トランジスタを使った16ナノメートル世代(ナノは10億分の1)以降のLSI技術を17日の「技術シンポジウム」で発表する。半導体の回...

微細化の面では、電子描画装置で描画できる回路線幅を従来の十数ナノメートル(ナノは10億分の1)から8ナノメートルに、露光装置は同1000ナノメートルから350ナノメートルにまでそれぞれ...

大型放射光施設「SPring―8」の高エネルギーX線を使って実験した。... コバルト層の厚さを約0・8ナノメートル(ナノは10億分の1)以下に固定し、白金またはパラジウム層を約2ナノ...

太さは5ナノ―8ナノメートル(ナノは10億分の1)で通常は1ナノ―2ナノメートル。... 分析したところ、7ナノ―8ナノメートル径の鉄微粒子触媒から太い径のCNTが成長していることを確...

蒸着速度は毎秒8ナノメートル(ナノは10億分の1)で抵抗加熱方式の約8倍になるため、大幅に生産性が向上できるという。

東洋大学の内田貴司助教と立山マシン(富山市、宮野兼美社長、076・483・4123)は、短時間、低コストで単層カーボンナノチューブ(CNT)を生成できるシステムを開発し...

この結果、入射した波長820ナノメートル(ナノは10億分の1)のレーザー光が、波長12・8ナノメートルから22ナノメートルの範囲の極端紫外光(波長が10ナノ―100ナノメートル...

一般に粒径数ナノメートル(ナノは10億分の1)まで固体のサイズを小さくすると、大きな固体にはみられない特異な物理的、化学的性質が現れる。... 具体的には電子顕微鏡内で黒鉛基板上に形成...